3、窗口边缘无过腐蚀（去胶重新光刻）；

4、窗口内无染色现象（报废）；

5、氧化膜无腐蚀针孔（去胶重新光刻）；

6、氧化膜无划伤等（去胶重新光刻）。

Al上CVD腐蚀：

掺磷的SiO2是磷硅玻璃，如果PSG是长在铝上做钝化层，这时采用二氧化硅腐蚀液腐蚀会伤及铝层，所以一般采用如下腐蚀液：冰乙酸：氟化铵=2：3。具体步骤为：

1、将装有待腐蚀硅片的片架放入浸润剂（FUJI FILM DRIWEL）中浸泡10—15S；

2、将片架放入装有腐蚀液（冰乙酸：氟化铵=2：3）的槽中浸泡，并且上下晃动片架；

3、将片架放入装有甲醇溶液（甲醇：纯水=1：1）的槽中浸泡；

4、在溢流槽中溢流冲水；

5、冲纯水；

6、甩干。

铝腐蚀：

在铝腐蚀清洗机中进行，具体步骤为：

1、将装有待铝腐蚀硅片的片架放入浸润剂（FUJI FILM DRIWEL）中浸泡10-15s，并且上下晃动；

2、将片架放入装有45℃左右的铝腐蚀液（磷酸+硝酸+醋酸+纯水）的槽中浸泡，上下晃动片架，使得铝腐蚀更充分，腐蚀的时间根据先行片的腐蚀时间进行调整，直到腐蚀后看到二氧化硅表面为止；

3、冲纯水；

4、甩干：在甩干机中甩干后烘干。

磷酸约占80%，主要起腐蚀铝的作用，硝酸占1%-5%，其与铝反应生成溶于水的硝酸盐，可以提高腐蚀速率，但含量过多会影响光刻胶抗蚀刻能力，醋酸占10%左右，它能降低腐蚀液的表面张力，增加硅片与腐蚀液的浸润效果，提高腐蚀均匀性，同时具有缓冲作用，纯水占5%左右。

铝腐蚀后检验，主要项目有：

1、连铝、铝过腐蚀、铝条间残铝、铝条不过细、铝条氧化——去胶后重新蒸铝；

2、铝条变色（灰、黑、黄）——如果变色严重则报废。

SIPOS腐蚀：

1、将装有待腐蚀硅片的片架放入浸润剂（FUJI FILM DRIWEL）中浸泡20—30S，上下晃动；

2、将片架放入装有腐蚀液（40%NH4F溶液：H2O：40%HF溶液=10：6：1）的槽中浸泡，并且上下晃动片架；

3、冲纯水；

4、甩干。

等离子体刻蚀：

等离子体刻蚀可用于刻蚀SiO2，Si3N4，多晶硅等，但是，通常氧化硅用湿法腐蚀快，而氮化硅也可以采用二氧化硅腐蚀液，但是腐蚀速度慢，因此氮化硅刻蚀用干法刻蚀，所用的设备有901E/903E TEGAL plasma etching system型等离子刻蚀设备，用的的刻蚀气体有：CF4、O2、N2、SF6、CHF3、NF3、He、C2F6等。

1）Si3N4刻蚀：

在903E刻蚀机中刻蚀，刻蚀机内通入的气体有：CF4、NF3、He。

刻蚀机理是： CF4电离→CF3+F*（氟自由基）

CF3电离→CF2+F*

CF2电离→CF1+F*

12F*+ Si3N4→3Si F4↑+2 N2↑

氟游离基的作用是使氮化硅被腐蚀，生成物是气体，被真空装置抽气抽走。为了加快腐蚀速率可以在CF4中加入少量氧气（5%-8%），因为氧能够抑制F*在反应腔壁的损失，并且：CF4+O2→F* +O*+COF*+COF2+CO+…… （电离）

COF*寿命较长，当它运动到硅片表面时发生以下反应从而加速了腐蚀速率：

COF*→F* CO （电离）

但是氧气加多了要腐蚀光刻胶降低选择比。

2）SIPOS、多晶硅刻蚀：

在901E刻蚀机中刻蚀，刻蚀机内通入的气体有：SF6。

玻璃腐蚀：

1、 配制5%HF溶液，

配制腐蚀液：5%HF溶液：H2O=3：50；

2、常温下，将硅片放入腐蚀液中浸泡；

3、在溢流槽中冲洗；

4、冲纯水；

5、甩干。

湿法去胶：

铝淀积前去胶在SH去胶机（湿法腐蚀机）中进行，采用SH溶液将胶氧化的方法去胶，具体步骤为：

1、在SH清洗剂（98%H2SO4：H2O2=3：1）中浸泡；

2、在温纯水中溢流冲水；

3、在溢流槽中溢流冲水；

4、甩干。

由于酸对铝有腐蚀作用，淀积铝后去胶就不能用酸，在此采用有机溶剂OMR502剥离液去胶，在OMR剥离清洗机中进行，具体步骤为：

1、在剥离液（OMR-83剥离液）中浸泡去除光刻胶；

2、再在H-1清洗剂中浸泡去除剥离液；

3、在异丙醇中浸泡去除H-1清洗剂；

4、冲纯水；

5、甩干。

等离子体干法去胶：

用HDK-2型等离子刻蚀去胶机去胶，在去胶机内通入刻蚀气体O2。等离子体内的活化氧使有机物在（50—100）℃下很快氧化，生成CO2、CO、H2O等挥发性成份，从而达到去胶目的。

特殊胶（PI钝化产品、带胶注入产品）：PI去胶时除了O2，再加适量的CF4，如果去不干净再在等离子刻蚀机上用SF6处理。

一般在Si3N4刻蚀后去胶用有机溶剂剥除，然后在等离子体去胶机中去胶丝，刻蚀后在显微镜下观察硅片表面是否有残丝。

去胶后检查：

1、有残胶——再去胶；

2、有残液——再清洗；

3、有残迹——用1号液清洗；

4、窗口有二氧化硅或铝残留。返回搜狐，查看更多