而佳能、尼康不认输，坚持不造这种以水为介质的光刻机，于是市场慢慢的全被ASML抢走了，后来ASML更是造出了EUV光刻机，独家垄断了光源等等。导致尼康、佳能一蹶不振，再也翻不了身。

后来尼康认错，也开始接受现实，制造浸润式光刻机，但佳能死都不认错，坚持不造浸润式光刻机。如今除了ASML，日本尼康也能够量产用于生产7nm及以下制程的浸润式光刻机，也就是DUV中的ARFI光刻机。

而佳能则转身研究“纳米压印光刻（NIL）”技术去了，想要颠覆ASML的EUV光刻机技术，要换道超车。

目前佳能已经造出了NIL光刻机，且已经与内存厂商铠侠合作，用于制造内存芯片，不过分辨率还不够理想，但前方已经看到光亮了，佳能表示，很快可以达到5nm的分辨率。

按照佳能的报表，2022年光刻机的营收增长11%。但表示2023年要重金投入光刻机，产能要提升两倍，同时再押注NIL光刻机技术，尽快实现5nm精度。

与ASML不一样，ASML的光刻机依赖美国的技术，但日本的光刻机，不管是尼康的、还是佳能的，基本上都是自主可控的，不需要美国的技术，不受美国的长臂管辖。

所以我们看到美国赶紧联手日本，来围堵中国半导体产业，就是怕日本卖光刻机给中国。

但不可否认的是，虽然美国已经联手日本，但日本光刻机能否卷土重来可能会成为现实，而借助中国市场，实现光刻机产业的“弯道超车”，可能也会是日本光刻机厂商们的选择之一，就看筹码够不够了。返回搜狐，查看更多