1、镁合金和铝合金结构件镭雕技术规范V1.01 技术规范的目的1.1 规范制定目的平板的铝合金、压铸镁合金件化成处理（又称皮膜）或阳极后为了保证天线及接地位置导通，需要对导通区域进行镭雕处理，去除表面皮膜或阳极层。为了防止镭雕区域导电不良（氧化或残留），特制定本技术规范。2 技术规范详细要求2.1 化成处理工艺要求及检验规范2.1.1 化成处理工艺要求1、 镁、铝合金化成子篮（装产品的支架或篮子）及子篮补焊材料要求：材料型号选择SUS316（不得使用SUS304，其在经过酸洗槽液容易污染槽液，会加剧镭雕区的氧化现象）；2、 化成处理水质要求：化成处理采用纯水，导电率小于50个单位。2.1.2 化成

2、处理检验规范1、 化成处理后工件外观要求：镁合金化成面为浅灰色，颜色均匀，不允许出现发黄、白点等异色现像；铝合金化成面为金属原色，不允许出现发黄、白点。2、 化成处理后工件（含镁合金和铝合金）表面阻抗要求：化成件表面阻抗要求铝合金小于1欧姆，镁合金小于2欧姆。3、 化成处理后工件（压铸铝合金）抗盐雾要求：按照JIS/Z2371-2000盐雾标准，达到8级或以上水平。2.2 镭雕工艺规范工艺规范压铸镁合金铝合金镭雕方式及功率镭雕机额定功率大于或等于30W功率以上，线状镭雕，镭雕四次。第一步：0°，90°各一次，功率>=25W第二步：45°，135°各

3、一次，额定功率的30%镭雕机额定功率大于或等于30W功率以上，线状镭雕，镭雕两次。45°，135°各一次，功率>=25W镭雕线间距