>CVD技术不仅可以在基片上进行涂层，而且可以在粉体表面涂层等。特别是在低温下可以合成高熔点物质，在节能方面做出了贡献，作为一种新技术是大有前途的。例如在1000℃左右可以合成a-Al2O3、SiC，而且正向更低温度发展。

>我国集成电路、半导体产业发展迅速，规模不断扩大，技术不断进步，对薄膜沉积相关设备需求快速增长，化学气相沉积是集成电路、半导体领域应用最为广泛的薄膜沉积技术，因此我国CVD设备需求快速上升。在此背景下，我国CVD设备生产企业开始增多，代表性企业主要有北方华创、沈阳拓荆、捷佳伟创、无锡松煜等。但与国际先进企业相比，我国CVD设备行业技术实力较弱，市场份额占比较低，国外企业占据主导地位。