导语：目前市场主流光刻设备有i-line、KrF、ArF、ArFi、EUV五大类。

光刻机是半导体制造的核心设备，其性能直接决定了芯片的工艺水平，开发难度大，价值量高，市场规模可观，目前市场主流光刻设备有i-line、KrF、ArF、ArFi、EUV五大类；分辨率、套刻精度、产率是光刻机的核心指标，其中，分辨率直接决定制程，极致的分辨率水平是光刻机产业不懈的追求，是光刻机最重要的指标，而套刻精度影响良率，产率影响光刻机的产能及经济性，此外，多重曝光技术可在光刻机分辨率不变的情况下进一步提高芯片制程，应用较为广泛。

ASML、Nikon、Canon是全球光刻机产业三大龙头，占据绝大部分市场份额，其中ASML 在高端浸没式DUV及EUV方面绝对领先，Nikon在浸没式DUV方面也有少量出货，Canon则聚焦中低端领域。

国内来看，上海微电子是领航者， 在“02专项”支持以及产业链公司的共同努力下，国产光刻机产业链不断完善：

科益虹源已实现准分子激光光源的出货，炬光科技的光刻机用匀化器取得规模可观的营收，茂莱光学已掌握“光刻机曝光物镜超精密光学元件加工”核心技术且其精密光学器件已应用于国产光刻机中，华卓精科则在双工作台方面取得突破。

在当前受海外限制的背景下，光刻机是被限制的重点，国产发展是唯一选择，亟待突破。