图文导读

图1 (a) MoO2,MoO3和MoO2@MoO3表面N2吸附自由能变化。(b)过渡金属和N2之间吸附键合示意图。*N2活性物种在(c)MoO2和(f) MoO2@MoO3表面的PDOS。*N2活性物种在MoO2 (d-e)和MoO2@MoO3(g-h)表面的HOMO/ LOMO电荷密度分布（等值面: 0.0005 e−1•Bohr−3）。蓝色：N；紫罗兰色：Mo4+; 青：Mo6+；红色：O。 

图2(a) MoO2,MoO3和MoO2@MoO3合成示意图。(b)NENU-5前驱的SEM。MoO2的(c) TEM，(d)HRTEM和(e)元素分布。(f) MoO2,MoO3和MoO2@MoO3的XRD。MoO2@MoO3的(g) SAED、(h)高分辨和(i)XPS能谱。

图3 (a) Mo K-edge。（b）Mo M-edge，包含N K-edge。(c) MoO2,MoO3和MoO2@MoO3中O K-edge。

图4（a）在N2和Ar气氛围下，MoO2@MoO3的LSV曲线。MoO2@MoO3不同电压下(b)合成氨的产率，(c)合成氨的法拉第效率，(d)电流密度随时间的变化曲线。(e) MoO2@MoO3在-0.35V下连续循环测试。(f)用14N和15N 作为供给气体连续测试6h的1H NMR 谱。

图5（a）实时NRR条件下MoO2@MoO3在1400−850 cm−1范围内的原位SR-FTIR测试（b）同位素标记原原位SR-FTIR测试。(c)在不同电压下的NRR过程中Mo K-edge EXAFS谱的第一壳层拟合。计算NRR过程各步骤的吸附构型和对应的ΔG在(d) MoO2和(e) MoO2@MoO3中。