半导体器件仿真实验 |
您所在的位置:网站首页 › 半导体物理mos › 半导体器件仿真实验 |
Matlab部分 一、实验目的半导体器件理论部分有许多公式或方程,比较抽象而难懂。通过Matlab仿真,我们可以把一些重点的公式或方程转换成二维或三维函数图像,更直观地把它们展示出来。通过观察函数图像的特点,结合公式,能够相互印证,更好地领会公式或方程的物理意义和数学特点。 二、实验方案在理论知识部分,主要讲解了PN结、BJT、MOSFET等章节,从中选取了一些重点内容,如正偏时PN结中性区内的少子浓度分布,BJT的转移特性和输出特性,MOS管的转移特性和输出特性等。我们给出了相关公式,让同学们独立把这些公式用Matlab编写出来,然后仿真得到对应的二维或三维函数图像。然后结合函数图像和公式,更好地领会课程内容 三、实验内容 3.1 正偏时PN结N区中性区内的少子浓度分布1 少子浓度分布方程 Δpnx=pn0expqVkT-1⋅sinhWB-xLpsinhWBLp 2 仿真参数 3 实验要求 (1)以x和𝑉为自变量,Δpnx为因变量,自选WB,分别对WB >> Lp和WB > Lp时 (例)
②WB Lp时, Δpnx都随𝑉呈指数变化关系。但WB > Lp时Δpnx随x呈指数变化关系。 3.2 理想PN结的I-V曲线1 理想PN结的I-V特性方程 I=ISexpqVkT-1 2 仿真参数
3 实验要求 (1)以𝑉为自变量, 𝐼为因变量,仿真得到PN结的I-V曲线。观察正偏和反偏时,𝐼随𝑉的变化规律。 (2)思考题:如果规定正向电流达到2mA时的电压为正向导通电压,记作 VF。那么在该参数下PN结的VF是多少?请在曲线中标出该点。 4代码、仿真图像和思考题 (1)代码 q = 1.6e-19; % C IS = 1e-13; % A 反向饱和电流 k = 1.38e-23; % J/K 玻尔兹曼常数 T = 300; % K V = -0.6:0.005:0.65; I = IS*(exp((q*V)/(k*T))-1); figure plot(V,I,'r'); grid on title('I-V特性曲线'); xlabel('V/V'); ylabel('I/A'); (2)仿真图像 (3)思考题 电压如图 3.3 BJT的转移特性和输出特性1 BJT的转移特性和输出特性方程 IC=αIESexpqVBEkT-1-ICSexpqVBCkT-1 式中,VBC=VBE- VCE 2 仿真参数 3实验要求 (1)以VBE 和VCE 为自变量,IC为因变量,仿真得到方程的三维曲线。(2)思考题:观察IC随VBE和VCE的变化规律,并根据所学知识进行解释。 4 代码、仿真图像 (1)代码 q = 1.6e-19; % C k = 1.38e-23; % J/K 玻尔兹曼常数 T = 300; % K a = 0.99; % α共基交流电流放大系数 IES = 1.02e-12; % A 发射结反向饱和电流 ICS = 1e-12; % A 集电结反向饱和电流 V1 = 0.6; VoltageBE = 0:V1/50:V1; V2 = 1.2; VoltageCE = 0:V2/50:V2; [VBE,VCE] = meshgrid(VoltageBE ,VoltageCE ); VBC = VBE-VCE; IC = a*IES*(exp((q*VBE)/(k*T))-1)-ICS*(exp((q*VBC)/(k*T))-1); figure mesh(VCE,VBE,IC); shading interp; colormap jet; title('IC-VCE-VBE'); xlabel('VCE/V'); ylabel('VBE/V'); zlabel('IC/A'); (2)仿真图像 (不同角度的三张图,同3.1的例子) (3)思考题 3.4 BJT基区输运系数与频率的关系1(1)由电荷控制法 βω*=β0*1+jωτb (2)经修正得到的准确方程 βω*=β0*1+jωτb1+me-jωm1+mτb 2 仿真参数
3 实验要求 (1)以𝜔为自变量, βω*为因变量,分别对1中的(1)(2)两个方程仿真,得到复数坐标下的函数图像。(2)思考题:研究βω* 随𝜔的变化趋势, 比较两个函数图像的异同。 4 代码、仿真图像和思考题 (1)代码 第一个 y0 = 0.995; % 直流输运系数 tb = 1e-6; % s 少子在基区的平均渡越时间 x = 0:100:1e9; % ω y = y0./(1+1j*x*tb); % β* figure plot(real(y),imag(y)); grid on axis equal xlabel('a'); ylabel('jb'); 第二个 y0 = 0.995; % 直流输运系数 tb = 1e-6; % s 少子在基区的停留时间 m = 0.22; x = 0:1e9/100000:1e9; % ω y = y0./(1+1j*x*tb/(1+m)).*exp(-1j*x*m/(1+m)); % β figure plot(real(y),imag(y)); grid on axis equal xlabel('a'); ylabel('jb'); (2)仿真图像 (两张图)
(3)思考题 随着频率升高,基区输运系数的幅度变化是沿着半圆上的P点,由于相位角随着频率变化,得到Pˊ点。其中,m为超相移因子。所以两张图会产生不同的效果。 3.5 增强型NMOS管的转移特性和输出特性1 增强型NMOS管的直流特性方程 2 仿真参数
3实验要求
4 代码、仿真图像和思考题 (1)代码 Vtn = 0.75; % V阈值电压 un = 650; % cm^2/V 电子迁移率 Cox = 76.7*10^(-9); % F/cm^2 W = 30; %um L = 3; %um Kn = W*un*Cox/(2*L) %A/V^2 %VGS=0.75:1:3; VGS0=0.75; VGS1=1; VGS2=1.5; VGS3=2; VGS4=2.5; VGS5=3; VDS=0:0.01:8; iD0=0*(VGS0=Vtn & VDS=Vtn & VDS>=VGS0-Vtn); iD1=0*(VGS1=Vtn & VDS=Vtn & VDS>=VGS1-Vtn); iD2=0*(VGS2=Vtn & VDS=Vtn & VDS>=VGS2-Vtn); iD3=0*(VGS3=Vtn & VDS=Vtn & VDS>=VGS3-Vtn); iD4=0*(VGS4=Vtn & VDS=Vtn & VDS>=VGS4-Vtn); iD5=0*(VGS5=Vtn & VDS=Vtn & VDS>=VGS5-Vtn); VDS1=0:0.01:2.3; iD=Kn*VDS1.^2; figure(1) %建立图形 plot(VDS,iD0,'r',VDS,iD1,'y',VDS,iD2,'m',VDS,iD3,'c',VDS,iD4,'g',VDS,iD5,'b',VDS1,iD,'k--'); legend('VGS0=0.75V','VGS1=1V','VGS2=1.5V','VGS3=2V','VGS4=2.5V','VGS5=3V','VDS=VGS-Vtn,预夹断临界点轨迹') title('输出特性曲线'); xlabel('VDS/V'); ylabel('iD/A'); %VDS=0:1:4; VGS=0:0.01:3; VDS0=0; VDS1=0.5; VDS2=1; VDS3=1.5; VDS4=2; VDS5=2.5; iD0=0*(VGS=Vtn & VDS0=Vtn & VDS0>=VGS-Vtn); iD1=0*(VGS=Vtn & VDS1=Vtn & VDS1>=VGS-Vtn); iD2=0*(VGS=Vtn & VDS2=Vtn & VDS2>=VGS-Vtn); iD3=0*(VGS=Vtn & VDS3=Vtn & VDS3>=VGS-Vtn); iD4=0*(VGS=Vtn & VDS4=Vtn & VDS4>=VGS-Vtn); iD5=0*(VGS=Vtn & VDS5=Vtn & VDS5>=VGS-Vtn); figure(2) %建立图形 plot(VGS,iD0,'r',VGS,iD1,'g',VGS,iD2,'m',VGS,iD3,'c',VGS,iD4,'k',VGS,iD5,'b'); legend('VDS0=0V','VDS1=0.5V','VDS2=1V','VDS3=1.5V','VDS4=2V','VDS5=2.5V') title('转移特性曲线'); xlabel('VGS/V'); ylabel('iD/A'); x=0:0.1:3; y=x.*(8/3); [VGS,VDS]=meshgrid(x,y); iD=0*(VGS=Vtn & VDS=Vtn & VDS>=VGS-Vtn); figure(3) %建立图形 mesh(VGS,VDS,iD) %surf(VGS,VDS,iD) shading interp; colormap jet; title('iD-VGS-VDS'); %标题 x1=xlabel('VGS/V'); %x轴标题 x2=ylabel('VDS/V'); %y轴标题 x3=zlabel('iD/A'); %z轴标题(2)仿真图像 ①输出特性曲线 ②转移特性曲线 ③𝑖𝐷−VGS−VDS三维曲线 (3)思考题
Cadence部分 PN结的电学特性 一、实验目的1.熟悉软件的基本使用方法 2.熟悉二极管(PN结)的电学特性: (1)正向直流特性 (2)正向直流增量电导(交流等效电阻) (3)开关瞬态特性 二、实验内容使用工艺库:smic18mmrf、analogLib 三、实验步骤 1. 正向直流特性电路 本次实验要搭建的电路如下图。以元件npn18作为测试元件,将三极管设置为二极管形式,用vdc直流电源为基极供电。 图1 按字母键“I”插入元件,按字母键“W”进行连线。相关元件名字以及对应元件库如下表所示。 表1 vdc analogLib gnd analogLib npn18 smic18mmrf
仿真结果: 2. 正向直流增量电导(交流等效电阻) 在得到上图结果后,调用Calculator工具。 3. 开关瞬态特性搭建电路 在原本原理图的基础上进行改动,如下图所示: 其中将直流电压源vdc更换为vpulse方波源,并在图示位置添加理想电阻res。 新元件名称及所在库如下表所示: 表2 vpulse analogLib res analogLib 电阻阻值设置为500Ω。方波源的低电压为0V,高电压2V,pulse width为10ns,周期为20ns。 实验结果: BJT和MOSFET的伏安特性曲线 一、实验目的1.熟悉软件的基本使用方法; 2.熟悉BJT和MOSFET的电特性。 二、实验内容使用工艺库:smic18mmrf、analogLib 本实验内容为BJT和MOSFET的输出特性曲线的仿真。 三、实验步骤 (一)BJT的伏安特性曲线1. 搭建电路
所调用的元件名称以及其所在库如下表所示: 表1 vdc analogLib gnd analogLib npn18 smic18mmrf 仿真结果:
(二)MOSFET的伏安特性曲线 1. 搭建电路 创建好原理图后,本次实验要搭建的电路如下图。以元件n18作为测试元件,用vdc直流电源给栅源以及漏源供电。 本次实验调用元件名称和对应库如下表所示。 表2 vdc analogLib gnd analogLib n18 smic18mmrf
仿真结果:
|
CopyRight 2018-2019 办公设备维修网 版权所有 豫ICP备15022753号-3 |