半导体器件仿真实验

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半导体器件仿真实验

2023-12-31 22:47| 来源: 网络整理| 查看: 265

Matlab部分

一、实验目的

半导体器件理论部分有许多公式或方程,比较抽象而难懂。通过Matlab仿真,我们可以把一些重点的公式或方程转换成二维或三维函数图像,更直观地把它们展示出来。通过观察函数图像的特点,结合公式,能够相互印证,更好地领会公式或方程的物理意义和数学特点。

二、实验方案

在理论知识部分,主要讲解了PN结、BJT、MOSFET等章节,从中选取了一些重点内容,如正偏时PN结中性区内的少子浓度分布,BJT的转移特性和输出特性,MOS管的转移特性和输出特性等。我们给出了相关公式,让同学们独立把这些公式用Matlab编写出来,然后仿真得到对应的二维或三维函数图像。然后结合函数图像和公式,更好地领会课程内容

三、实验内容 3.1 正偏时PN结N区中性区内的少子浓度分布

1 少子浓度分布方程

Δpnx=pn0expqVkT-1⋅sinhWB-xLpsinhWBLp

2 仿真参数

3 实验要求

(1)以x和𝑉为自变量,Δpnx为因变量,自选WB,分别对WB >> Lp和WB > Lp

(例)

 

 

 

②WB  Lp时, Δpnx都随𝑉呈指数变化关系。但WB > Lp时Δpnx随x呈指数变化关系。

3.2 理想PN结的I-V曲线

1 理想PN结的I-V特性方程

I=ISexpqVkT-1

2 仿真参数

 

3 实验要求

(1)以𝑉为自变量, 𝐼为因变量,仿真得到PN结的I-V曲线。观察正偏和反偏时,𝐼随𝑉的变化规律。

(2)思考题:如果规定正向电流达到2mA时的电压为正向导通电压,记作 VF。那么在该参数下PN结的VF是多少?请在曲线中标出该点。

4代码、仿真图像和思考题

(1)代码

q = 1.6e-19;     % C

IS = 1e-13;      % A 反向饱和电流

k = 1.38e-23;    % J/K 玻尔兹曼常数

T = 300;         % K

V = -0.6:0.005:0.65;

I = IS*(exp((q*V)/(k*T))-1);

figure

plot(V,I,'r');

grid on

title('I-V特性曲线');

xlabel('V/V');

ylabel('I/A');

(2)仿真图像

 (3)思考题

电压如图

3.3 BJT的转移特性和输出特性

1 BJT的转移特性和输出特性方程

 IC=αIESexpqVBEkT-1-ICSexpqVBCkT-1

式中,VBC=VBE- VCE

 2 仿真参数

3实验要求

(1)以VBE 和VCE 为自变量,IC为因变量,仿真得到方程的三维曲线。(2)思考题:观察IC随VBE和VCE的变化规律,并根据所学知识进行解释。

4 代码、仿真图像

(1)代码

q = 1.6e-19;   % C

k = 1.38e-23;  % J/K 玻尔兹曼常数

T = 300;       % K

a = 0.99;      % α共基交流电流放大系数

IES = 1.02e-12; % A 发射结反向饱和电流   

ICS = 1e-12;    % A 集电结反向饱和电流 

V1 = 0.6;

VoltageBE = 0:V1/50:V1;

V2 = 1.2;

VoltageCE = 0:V2/50:V2;

[VBE,VCE] = meshgrid(VoltageBE ,VoltageCE );

VBC = VBE-VCE;

IC = a*IES*(exp((q*VBE)/(k*T))-1)-ICS*(exp((q*VBC)/(k*T))-1);

figure

mesh(VCE,VBE,IC);

shading interp;

colormap jet;

title('IC-VCE-VBE');

xlabel('VCE/V');

ylabel('VBE/V');

zlabel('IC/A');

(2)仿真图像

(不同角度的三张图,同3.1的例子)

(3)思考题

3.4 BJT基区输运系数与频率的关系

1(1)由电荷控制法

 βω*=β0*1+jωτb

 (2)经修正得到的准确方程

βω*=β0*1+jωτb1+me-jωm1+mτb

2 仿真参数

 

 

3 实验要求

(1)以𝜔为自变量, βω*为因变量,分别对1中的(1)(2)两个方程仿真,得到复数坐标下的函数图像。(2)思考题:研究βω* 随𝜔的变化趋势, 比较两个函数图像的异同。

4 代码、仿真图像和思考题

(1)代码

第一个

y0 = 0.995;     %   直流输运系数

tb = 1e-6;      % s 少子在基区的平均渡越时间

x = 0:100:1e9;        % ω

y = y0./(1+1j*x*tb);  % β*

figure

plot(real(y),imag(y));

grid on

axis equal

xlabel('a');

ylabel('jb');

第二个

y0 = 0.995;     %   直流输运系数

tb = 1e-6;      % s 少子在基区的停留时间

m  = 0.22;

x = 0:1e9/100000:1e9;                           % ω

y = y0./(1+1j*x*tb/(1+m)).*exp(-1j*x*m/(1+m));  % β

figure

plot(real(y),imag(y));

grid on

axis equal

xlabel('a');

ylabel('jb');

(2)仿真图像

(两张图)

 

 

(3)思考题

随着频率升高,基区输运系数的幅度变化是沿着半圆上的P点,由于相位角随着频率变化,得到Pˊ点。其中,m为超相移因子。所以两张图会产生不同的效果。

3.5 增强型NMOS管的转移特性和输出特性

1 增强型NMOS管的直流特性方程

2 仿真参数

 

 3实验要求

 

4 代码、仿真图像和思考题

(1)代码

Vtn = 0.75; % V阈值电压 un = 650; % cm^2/V 电子迁移率 Cox = 76.7*10^(-9); % F/cm^2 W = 30; %um L = 3; %um Kn = W*un*Cox/(2*L) %A/V^2 %VGS=0.75:1:3; VGS0=0.75; VGS1=1; VGS2=1.5; VGS3=2; VGS4=2.5; VGS5=3; VDS=0:0.01:8; iD0=0*(VGS0=Vtn & VDS=Vtn & VDS>=VGS0-Vtn); iD1=0*(VGS1=Vtn & VDS=Vtn & VDS>=VGS1-Vtn); iD2=0*(VGS2=Vtn & VDS=Vtn & VDS>=VGS2-Vtn); iD3=0*(VGS3=Vtn & VDS=Vtn & VDS>=VGS3-Vtn); iD4=0*(VGS4=Vtn & VDS=Vtn & VDS>=VGS4-Vtn); iD5=0*(VGS5=Vtn & VDS=Vtn & VDS>=VGS5-Vtn); VDS1=0:0.01:2.3; iD=Kn*VDS1.^2; figure(1) %建立图形 plot(VDS,iD0,'r',VDS,iD1,'y',VDS,iD2,'m',VDS,iD3,'c',VDS,iD4,'g',VDS,iD5,'b',VDS1,iD,'k--'); legend('VGS0=0.75V','VGS1=1V','VGS2=1.5V','VGS3=2V','VGS4=2.5V','VGS5=3V','VDS=VGS-Vtn,预夹断临界点轨迹') title('输出特性曲线'); xlabel('VDS/V'); ylabel('iD/A'); %VDS=0:1:4; VGS=0:0.01:3; VDS0=0; VDS1=0.5; VDS2=1; VDS3=1.5; VDS4=2; VDS5=2.5; iD0=0*(VGS=Vtn & VDS0=Vtn & VDS0>=VGS-Vtn); iD1=0*(VGS=Vtn & VDS1=Vtn & VDS1>=VGS-Vtn); iD2=0*(VGS=Vtn & VDS2=Vtn & VDS2>=VGS-Vtn); iD3=0*(VGS=Vtn & VDS3=Vtn & VDS3>=VGS-Vtn); iD4=0*(VGS=Vtn & VDS4=Vtn & VDS4>=VGS-Vtn); iD5=0*(VGS=Vtn & VDS5=Vtn & VDS5>=VGS-Vtn); figure(2) %建立图形 plot(VGS,iD0,'r',VGS,iD1,'g',VGS,iD2,'m',VGS,iD3,'c',VGS,iD4,'k',VGS,iD5,'b'); legend('VDS0=0V','VDS1=0.5V','VDS2=1V','VDS3=1.5V','VDS4=2V','VDS5=2.5V') title('转移特性曲线'); xlabel('VGS/V'); ylabel('iD/A'); x=0:0.1:3; y=x.*(8/3); [VGS,VDS]=meshgrid(x,y); iD=0*(VGS=Vtn & VDS=Vtn & VDS>=VGS-Vtn); figure(3) %建立图形 mesh(VGS,VDS,iD) %surf(VGS,VDS,iD) shading interp; colormap jet; title('iD-VGS-VDS'); %标题 x1=xlabel('VGS/V'); %x轴标题 x2=ylabel('VDS/V'); %y轴标题 x3=zlabel('iD/A'); %z轴标题

(2)仿真图像

①输出特性曲线

②转移特性曲线

③𝑖𝐷−VGS−VDS三维曲线

(3)思考题

 

Cadence部分

PN结的电学特性 一、实验目的

1.熟悉软件的基本使用方法

2.熟悉二极管(PN结)的电学特性:

(1)正向直流特性

(2)正向直流增量电导(交流等效电阻)

(3)开关瞬态特性

二、实验内容

使用工艺库:smic18mmrf、analogLib

三、实验步骤 1. 正向直流特性

电路

本次实验要搭建的电路如下图。以元件npn18作为测试元件,将三极管设置为二极管形式,用vdc直流电源为基极供电。

图1

       按字母键“I”插入元件,按字母键“W”进行连线。相关元件名字以及对应元件库如下表所示。

表1

vdc

analogLib

gnd

analogLib

npn18

smic18mmrf

 

仿真结果:

 

2. 正向直流增量电导(交流等效电阻)

       在得到上图结果后,调用Calculator工具。

3. 开关瞬态特性

搭建电路

       在原本原理图的基础上进行改动,如下图所示:

其中将直流电压源vdc更换为vpulse方波源,并在图示位置添加理想电阻res。

       新元件名称及所在库如下表所示:

表2

vpulse

analogLib

res

analogLib

       电阻阻值设置为500Ω。方波源的低电压为0V,高电压2V,pulse width为10ns,周期为20ns。

实验结果:

BJT和MOSFET的伏安特性曲线 一、实验目的

1.熟悉软件的基本使用方法;

2.熟悉BJT和MOSFET的电特性。

二、实验内容

使用工艺库:smic18mmrf、analogLib

本实验内容为BJT和MOSFET的输出特性曲线的仿真。

三、实验步骤 (一)BJT的伏安特性曲线

1. 搭建电路

 

所调用的元件名称以及其所在库如下表所示:

表1

vdc

analogLib

gnd

analogLib

npn18

smic18mmrf

仿真结果:

 

 

(二)MOSFET的伏安特性曲线

1. 搭建电路

创建好原理图后,本次实验要搭建的电路如下图。以元件n18作为测试元件,用vdc直流电源给栅源以及漏源供电。

本次实验调用元件名称和对应库如下表所示。

表2

vdc

analogLib

gnd

analogLib

n18

smic18mmrf

 

 仿真结果:

 

 

 

 

 

 

 



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