经常有人问我怎么画掩膜版啊，其实这是很简单的一个事，五分钟就可以入门。今天我就以光刻掩膜版为例，向大家介绍如何画掩膜版，以个人的知识造福大家。

第一步：安装L-Edit

从下面的链接处下载安装包，以及附带的教程示例。链接:

https://pan.baidu.com/s/1AYvHX5lKIQJJ6W1esGN5_A 提取码: n8jx

按照内部的安装教程安装完成后，会有很多的软件，我们只用第一个L-Edit v16.0 64-bit。

第二步：画光刻掩膜版安装完软件后，我们双击打开Ledit教程示例.tdb。教程示例完成了大部分基本的软件设置工作，大家只需要在里面设计自己需要的结构就可以了。

比较重要的地方有两个。第一个是画结构命令区，选择要画的图形，比如三角形，圆形，多边形；第二个是CELL区，一个掩膜版会划分成很多小块，比如套刻标记，器件顺序标记，掩膜版说明，真正的器件结构等等，可以分开在多个CELL里面画，然后合并成最终的掩膜版CELL。

2.1、套刻标记CELL示例介绍

套刻标记Cell，用于界定单次曝光图形的范围，以及多次曝光的套刻标记。大家可以根据自己的需要，修改大小，和套刻标记的形状。

2.2、结构图案CELL介绍

示例里面把掩膜版划分成了很多CELL，分开画。

2.3、画光刻掩膜版

A、基本图形画法：在左边双击打开一个Cell，cell-cylin15，把里面的原来的图形删除掉，然后在命令栏里选择画圆的命令（或者其它图形的命令），

画完圆后，鼠标左键选中圆，然后Ctrl+E快捷键，设置圆所在的层，和编辑坐标、半径。

画多边形，需要依次编辑每个顶点的坐标。

On layer这里有三个Metal层可以选择（光刻掩膜版只需要一个层，EBL掩膜版不同剂量用不同的层，根据需要选择不同的层，如果层不够用，在Setup->layers里面添加更多的层）；和三个Via层，过孔层，用得少。

B、布尔运行的使用：用布尔运算画复杂图形。比如画如下的图形，先按照前面的方法，画一个圆，和一个矩形，然后用鼠标左键+Shift，同时选中这两个图形，然后在工具栏里选择布尔运行命令。

弹出如下编辑框，在Operation里面选择，运行操作。这里选择相减Subtract(A-B)。

C、周期结构的画法：鼠标右键点击cell-cylin15，选择copy，复制出一个新的cell，重命名为cell-cylin15_800_800。

把cell-cylin15_800_800里面的图形删掉，然后鼠标左键选中cell-cylin15，然后拖到cell-cylin15_800_800的右边视图框里面（结果如下图）。

鼠标左键选中cell-cylin15_800_800的右边视图框里的图形，然后Ctrl+E快捷键，弹出如下框图，编辑对应参数。

编辑完成后，结果如下图。

D、最终掩膜版拼接方法：

运用复制的方法复制出一个新的Cell，并重命名为MASK。把里面原有的图形删除，然后把前面画的套刻标记，说明，光刻图案等等一一拖进到MASK Cell里面，并Ctrl+E快捷键，修改它们的坐标位置，形成最终的可以加工的光刻掩膜版。可以在淘宝联系加工商，本示例可以用于加工3英寸或者2.5英寸的光刻掩膜版（3英寸用起来更方便）。

第三步：最终掩膜版效果

左图为画的光刻掩膜版，右边为加工出来的2.5英寸实物图。