对此中国同样做好了充分准备，中国正在积极研发自己的光刻机，并且努力完善自己的芯片制造产业链，而光刻胶正是中国积极攻关的一项重要技术，如今中国已有多家企业研发光刻胶。

日前国内一家企业就宣布研发成功的7纳米先进光刻胶已投入生产，并被国内芯片制造企业采用，它研发的光刻胶已覆盖了G线、ArF、ArFi等多个波长的光刻胶，从28纳米以上的成熟工艺到7纳米的先进光刻机都实现了国产化。

国产化的7纳米工艺量产，意味着着国产芯片制造工艺进一步自主化，摆脱对海外芯片材料和设备的依赖，走出了自己独立发展的道路，日本的芯片材料产业将再遭重大打击，毕竟中国已是全球最大的芯片设备和材料市场，而日本又已失去韩国市场，再失去中国市场，日本的芯片材料和设备产业将进一步衰落。

中国这家科技企业高管认为，中国实现7纳米工艺的量产具有极为重要的意义，7纳米已达到世界较为先进的水平，这也是全球第四家实现7纳米工艺，格芯、台联电等已止步于14纳米，中国拥有较为先进的工艺，就可以通过芯片架构、软件算法等方面的创新，进一步提升整体性能，走出自己的特色道路。

中国拥有全球最多的人才，中国人也在芯片技术方面拥有独特的天赋，拥有全球最先进工艺的台积电正是华人在芯片技术方面独特天赋的体现，而美国诸多芯片企业如NVIDIA、AMD都由华人掌握，还有大量华人工程师在美国从事芯片技术研发，都证明了这一点，相信中国的工程师必然可以突破困扰，走出自己芯片技术道路，自主创新不会是空话。返回搜狐，查看更多