荧光的淬灭及抗淬灭 |
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荧光的淬灭及抗淬灭1)荧光的淬灭:荧光淬灭(quench)是指荧光分子由内部因素和外部因素同时作用造成的不可逆破坏。内部因素主要是分子从激发态回到基态以非辐射跃迁形式释放能量。外部因素则包含多方面,主要有: ①光照射是致荧光淬灭的最常见原因,荧光的产生需要光照射,但同时光照射也会促进激发态分子与其他分子相互作用而引起碰撞,使荧光淬灭; ②荧光物质的分子与外部分子(或离子)形成非荧光的化合物; ③共振能量的转移; ④溶剂种类、pH值及温度等环境条件。理想的PPD抗淬灭剂混合液配方是:9份甘油、1份PBS和浓度在2~7retool/L之间的PPl),最终pH为8.5~9.0。n-丙基没食子酸盐无毒性,对光和热稳定,但抗荧光漂白的效果不如PPl),可用于体内研究。推荐浓度为3~9retool/L,用甘油配制效果较好。l,4-二偶氮双环C2,2,2)-辛烷是一种稳定的非离子性抗淬灭剂,价格便宜且易使用,可用于体内研究。 此外,还有其他的抗荧光淬灭方法也能使活性细胞或非活性标本荧光强度得到增强,如使用中密度滤片、采用高数值孔径物镜和相对较低的放大倍数等。 |
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