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当谈到长度单位时，我们通常会提到纳米（nanometer）和微米（micrometer），但对于许多人来说，"埃"（angstrom）可能相对陌生。尽管如此，埃是一个重要的长度单位，尤其在原子和分子级别的研究中起到关键作用,当然在晶圆厂中经常会用到，很多小伙伴也是在晶圆厂工作后才知道有这么一个比纳米更使用的长度单位。埃是什么？埃，Angstrom (Å)，埃的定义非常小，它等于1×10^(-10) 米，也就是十亿分之一米。相对于埃来说，纳米是是一种更大的长度单位，等于亿分之一米（即1×10^(-9) 米）。也就是说，1纳米等于10埃。对于大多数哦人来说，纳米已经是长度单位的极限了，纳米则更常用于纳米科学和纳米技术领域，埃更适用于原子和分子级别的研究。埃的历史？埃（angstrom），这个单位的名称是为了纪念瑞典物理学家Anders Jonas Ångström（1814–1874）。Anders Jonas Ångström是第一个成功测量电磁波长的科学家，他使用分光仪和光谱学方法，对光进行了深入研究。他的研究对于我们理解光的性质、原子结构以及光谱分析具有重要意义。在Anders Jonas Ångström的研究中，他提出了一种新的长度单位——埃。埃非常适合描述原子和分子之间的距离或光的波长，尤其是在原子物理学和光学研究中。原子和分子的尺寸通常在几个到几十个埃之间，因此埃的单位非常适合描述这些微小尺度。埃在芯片制造中的应用？在芯片制造中，埃（angstrom）扮演着关键的角色。在芯片制造过程中，需要在芯片表面上沉积各种薄膜层，如金属、绝缘体和半导体。埃被用来描述薄膜的厚度，以及控制薄膜的均匀性和质量。通过控制埃级别的薄膜沉积，可以实现所需的厚度和材料特性，从而确保芯片的性能和功能。埃在描述晶体结构和晶格参数时非常有用。芯片中的晶体结构对于电子流动、能带结构和电学特性至关重要。使用埃作为单位，可以准确测量晶格参数，如晶体晶格常数和晶胞大小，从而优化晶体的性能。在光刻过程中，使用光敏材料和光刻胶，通过紫外线光源对其进行曝光和显影。埃被用来描述光刻技术中的分辨率和最小可制造的特征尺寸。通过使用埃级别的光源和光刻胶，可以实现高分辨率的图案制作，从而实现更高密度的集成电路。等等长度单位换算 1m=1000mm=10^6µm=10^9nm=10^10Å最后，如果您是半导体从业人员，在和我聊芯片制程时，用的是纳米单位，我可能会感觉您非常不专业。 转载需注明出自本处。 我建了一个知识分享的社区，陆续上传一些芯片制造各工序，封装与测试各工序，建厂方面的知识，供应商信息等半导体资料。目前已上各类半导体文档400余个，解答问题100余条，并在不断更新中，内容远远丰富于日常发的文章。当然也可仅关注本号，我定期都有发文章在上面，可以满足小需求的读者。
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