IC模拟版图设计-了解版图 版图的定义：版图是在掩膜制造产品上实现 电路功能且满足电路功耗、性能等，从版图上减少工艺制造对电路的偏差，提高芯片的精准性。 版图的意义 1）集成电路掩膜版图设计师实现集成电路制造所必不可少的设计环节，它不仅关系到集成电路的功能是否正确，而且也会极大程度地影响集成电路的性能、成本与功耗。 2）它需要设计者具有电路系统原理与工艺制造方面的基本知识，设计出一套符合设计规则的“正确”版图也许并不困难，但是设计出最大程度体现高性能、低功耗、低成本、能实际可靠工作的芯片版图缺不是一朝一夕能学会的本事。想要了解更多关于版图的知识，可以关注“IC修真院”官网 版图的工具： Cadence Virtuoso Dracula Assura Diva Mentor calibre Spring soft laker 版图的设计流程 第二部分：版图设计基础 认识版图 版图组成两大部件 2.1 器件 2.2 互连 版图编辑器 电路图编辑器 了解工艺厂商 版图设计基础 版图是电路图的反映，有两大组成部分 2.1器件 2.1.1 MOS管 2.1.2 电阻 2.1.3 电容 2.1.4 三极管（省略） 2.1.5 二极管（省略） 2.1.6 电感（省略） 2.2互连 2.2.1金属（第一层金属，第二层金属……） 2.2.2通孔 2.1 器件 2.1.1 MOS管 2.1 器件 2.1.1 MOS管 1) NMOS管 以TSMC，CMOS，N单阱工艺为例 NMOS管，做在P衬底上，沟道为P型，源漏为N型 2) 包括层次： NIMP，N+注入 DIFF，有源区 Poly，栅 M1，金属 CONT，过孔 3) MOS管的宽长确定 4) 当有PCELL时;当无 PCELL时 2.1 器件 2.1.1 MOS管 1) NMOS管 以TSMC，CMOS，N单阱工艺为例 PMOS管，做在N阱中，沟道为N型，源漏为P型 2) 包括层次： NWELL，N阱 PIMP，P+注入 DIFF，有源区 Poly，栅 M1，金属 CONT，过孔 3) MOS管的宽长确定 由于内容过，今天就分享到此，如果大家有更多的需求可看版图设计基础笔记