日本表面处理技术近期动向第四部分金属钌电镀 |
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电镀与涂饰 , 2006, 25(5): 38-41. doi: 10.3969/j.issn.1004-227X.2006.05.013 日本表面处理技术近期动向第四部分金属钌电镀嵇永康 1, , 木名濑隆 2, , 卫中领 3, , 周延伶 4, 1.苏州华杰电子有限公司,江苏,苏州,215002 2.日鉱メタルプレ一ティング(株)高槻技術センタ一,日本大阪,亍569-0036 3.中国科学院上海微系统与信息技术研究所金属腐蚀与防护技术中心,上海,200050 4.ィビデン株式会社,日本大垣,亍503-8503
关键词: 镀钌 , 氨基磺酸 , 工艺规范 , 镀铑 , 镀钯 Current trend of surface treatment technics in Japan Part Ⅳ-Metallic ruthenium electroplating
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