退火氛围及温度对掺钛氧化铟薄膜光电性能的影响

您所在的位置:网站首页 温度对金属氧化的影响 退火氛围及温度对掺钛氧化铟薄膜光电性能的影响

退火氛围及温度对掺钛氧化铟薄膜光电性能的影响

2024-07-17 06:28| 来源: 网络整理| 查看: 265

来自 掌桥科研  喜欢 0

阅读量:

242

作者:

颜鲁婷,张路宁,周春燕,艾小东,李天翔

展开

摘要:

利用磁控溅射法在室温下制备了掺钛的氧化铟薄膜,并将薄膜在氮气及真空两种氛围下进行退火。研究了退火氛围及温度对掺钛氧化铟薄膜的光电性能的影响。实验发现,氮气氛围下较低的退火温度能够部分提高薄膜的电学性能,随退火温度升高,薄膜的电学性能反而下降。与氮气氛围相比,真空下退火更有助于提高掺钛氧化铟薄膜的电子迁移率,并且随退火温度升高,电子迁移率逐渐升高并达到一个稳定值。真空退火处理后,掺钛氧化铟在可见光区域的透光率接近80%,在大于1100nm的长波谱区的透光率也有所增高,并且方块电阻降为10/□,适合作为太阳能电池的窗口材料。

展开

关键词:

透明导电膜 退火 电子迁移率 透光率

DOI:

CNKI:SUN:COSE.0.2011-S2-121

被引量:

18

年份:

2011



【本文地址】


今日新闻


推荐新闻


    CopyRight 2018-2019 办公设备维修网 版权所有 豫ICP备15022753号-3