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在全球产业链的支持下，ASML掌握EUV光刻机的核心量产技术。ASML自身有90%的零部件依赖进口，采用了美国的光源设备，德国的镜头，日本的光刻胶。因此EUV光刻机是全球化的产物。

可即便如此，ASML还是有些飘了，认为哪怕提供图纸，别人也造不出来。不过ASML低估了大陆自研的决心，中科院正式官宣光刻机，传来EUV光源样机亮相的消息，难怪ASML着急发货。

光刻机是一种半导体制造设备，用于将电路设计图案投射到硅片上。它是制造集成电路的重要工具之一，通过将光源发出的光线通过光学系统投射到硅片上，形成所需的图案。

在半导体制造过程中，光刻机是非常重要的一环，只有得到光刻机的支持，才能顺利将芯片造出来。

中国正在加速芯片制造产业布局，因此对光刻机有了更多的需求，目前国内大部分的光刻机都来自于进口，与荷兰ASML公司展开合作。只不过ASML不能随意向中国大陆厂商出货EUV光刻机，若非美国的限制，ASML恐怕早就向大陆厂商出货了。

ASML能否出货EUV光刻机不是他能决定的，因为90%的技术来自进口，美国占到了非常大的比重。由于独家量产EUV光刻机的优势，给了ASML很大的自信，认为哪怕提供图纸，别人也造不出来。

事实真的如ASML所说吗？从客观条件来看，造EUV光刻机的难度的确非常大，涉及到多项核心技术。

比如光源技术，EUV光刻机使用的是波长为13.5纳米的极紫外光，需要使用非常高功率的激光器来产生，国产还需要经过长时间的研究和发展。

还有光学元件，由于EUV光的波长非常短，因此需要使用非常精密的光学系统来保证光线的聚焦和控制。这需要高精度的光学元件和精密的调节系统，以及对光学系统的稳定性和误差校正的要求非常高。

在控制系统方面也具有很大的挑战性，因为EUV光刻机是一个非常复杂的系统，需要将各个子系统进行高度集成和协调。

可纵使EUV光刻机再难造，也是由一项又一项技术堆叠起来的，ASML低估了大陆自研的决心，中科院正式官宣了一项光刻机技术。

根据中科院长春光机所的研发进展来看，其传出了EUV光源样机亮相的消息，并且得到了中科院院长白春礼的参观认可。

什么是EUV光源样机？在EUV光刻机的整体制造中发挥出怎样的作用？EUV光源样机是指用于产生波长为13.5纳米的极紫外光的实验性设备。

在EUV光刻机中，光源是其中最重要的组成部分之一，因为它产生的光线质量和功率直接影响到光刻机的性能和生产效率。EUV光源样机的研发是EUV光刻技术发展的关键之一，它的进一步改进和提高将有助于推动EUV光刻技术的商业化和应用。

随着长春光机所亮相了该技术，对推进国产光刻机的研发有积极影响。难怪ASML着急发货了，自从被限制出货之后，ASML就一直在积极示好中国，强调依然有很多旧款光刻机可以出货，还为中国客户分析可出货的范围。

ASML这么做就是担心失去相应的订单支持，中国在光刻机研发上的进步对ASML意味着竞争的挑战，因为中国的光刻机制造商可能最终会成为ASML的竞争对手。

此外，中国的光刻机技术的进步也可能会导致ASML在中国市场的份额下降。

可以理解ASML的心情，想在中国市场赚钱得看他的本事，以及在规则束缚之下能争取到多少出货机会。

不过ASML的光刻机再好，终究是别人的，随时都会面临被卡脖子的风险。旧款光刻机现在还能出货，将来就不好说了，摆脱对国外光刻机的依赖是中国芯片产业发展目标之一，要想做到这一点，得进行多方面的努力。

包括加大投入，加强研发，要在光刻机领域取得突破，需要大量的资金、人力和物力投入。另外还得加强人才培养，优化产业结构，提高自主创新能力。

这得建立完善的产业链和生态系统，加强与相关行业的协同创新和合作，提高整个产业的竞争力。ASML越是着急出货，越说明中国有必要加强国产光刻机的研发，所幸中科院在EUV光源样机上取得进展，期待传来更多的好消息。

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