揭秘MEMS扫描镜技术,发掘MEMS产业新蓝海

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揭秘MEMS扫描镜技术,发掘MEMS产业新蓝海

2024-07-13 20:38| 来源: 网络整理| 查看: 265

图1:多棱扫描镜;2:激光振镜;3:MEMS扫描镜

MEMS扫描镜(如图3)尺寸仅为毫米量级,其采用MEMS批量化生产技术制造,生产成本将大幅度降低,使得对成本敏感的消费电子产品也可以大量使用。MEMS扫描镜具有体积小、驱动功耗低、扫描频率高、寿命长等特点。这些优势使得MEMS扫描镜适合于激光微投影、VR/AR近眼微显示、MEMS三维激光雷达、3D感测、3D扫描仪、汽车自适应头灯、汽车抬头显示(HUD)等,特别是可以满足智能手机、平板电脑和可穿戴设备的搭载要求。

麦姆斯咨询:请您比较一下博世、意法半导体(ST)、滨松等公司的MEMS扫描镜技术。

吴亚明:博世在此次慕尼黑(上海)电子展上推出了全新交互式激光投影微型扫描仪BML050(如图4),融合了激光投影显示和手势用户界面两种功能,可将任何表面如餐桌、机器设备表面等转化为虚拟用户界面、触控屏。博世MEMS扫描镜是电磁驱动方式的单轴扫描镜,其水平光学扫描角为±15.0°,垂直光学扫描角为 ±9.1°,由于采用单轴扫描镜,需要两块相互垂直的扫描镜才能实现图像扫描,如图5所示。

图4:交互式激光投影微型扫描仪图;5:双扫描镜投影仪

意法半导体的扫描镜是与美国MicroVision公司合作生产的,其设计来自于MicroVision公司,由意法半导体公司代工生产。该MEMS扫描镜是电磁驱动双轴扫描镜,MEMS芯片尺寸为4.65mm x 7.55mm,微镜反射镜直径为1mm,最大横向投影角为43°,最大纵向投影角为24°。MEMS扫描镜模组中配置永磁铁,磁场方向与MEMS芯片的双轴都成45°。MEMS芯片设计单一驱动线圈坐落在框架上,驱动信号为双频率复合电流驱动信号,在磁场中产生力矩,驱动微镜作双轴转动。频率为27kHz(MEMS扫描镜共振频率)的正弦信号,用来驱动微镜的快速横向扫描,另一个频 率与帧频(60Hz)相同的锯齿波信号用来驱动MEMS扫描镜的慢速纵向扫描。芯片还设计了采用压阻感测原理的角度传感器,以检测微镜的位置和运动,为MEMS驱动电路提供反馈信号以保持微镜的衡幅共振运动。

滨松在慕尼黑(上海)光电展上首次推出了电磁驱动单轴MEMS扫描镜(如图6),该扫描镜的镜面直径为2.6mm,谐振频率为530Hz,光学扫描角度为±18°,最大驱动电流为±20mA,可以实现线性激光扫描。

图6:单轴电磁驱动MEMS扫描镜

可以看出,三家公司均采用了电磁驱动技术,这主要是因为电磁驱动为电流驱动,驱动电压低,无需升压芯片。此外,电磁驱动具有扭转角度大、可以实现电流型线性驱动的技术优势。但总体来说,与静电驱动扫描镜比较,电磁驱动扫描镜的驱动功耗相对较高,还需要配置永磁铁,模块尺寸相对较大。

麦姆斯咨询:请问MEMS扫描镜所采用的驱动技术有哪些?其中,主流驱动技术的特点有哪些?

吴亚明:MEMS扫描镜的驱动技术有四种,即静电驱动、电磁驱动、压电驱动和电热驱动,其中前两种技术比较成熟,应用也更广泛。静电驱动MEMS扫描镜(如图7)采用单晶硅制造,工艺简单、成熟,芯片尺寸小,驱动功耗极低,封装也比较简单,属电压驱动型器件。静电驱动MEMS扫描镜由于器件工作于谐振状态,可以实现大角度的扫描,但驱动电压会比较高。由于电磁驱动的力密度大,电磁驱动MEMS扫描镜(如图8)也获得广泛的应用,其扫描角度大,可以实现线性扫描。电磁驱动器件工艺涉及数十微米厚度的电磁线圈的制造,封装需要配置永磁铁,器件模块尺寸稍大些。该器件属电流驱动型器件,驱动电流达数十毫安,驱动功耗较高。器件既可工作于谐振状态,也可以工作于非谐振状态,当工作与谐振状态时,驱动功耗可以大幅度降低。

图7:静电驱动MEMS扫描镜图;8:电磁驱动MEMS扫描镜

麦姆斯咨询:MEMS扫描镜目前主要应用于信息激光领域,请问MEMS扫描镜也可以应用于激光加工等能量激光领域吗?还需要解决哪些技术挑战?

吴亚明:MEMS扫描镜的尺寸很小,其反射镜面直径通常为数毫米,镜面厚度、支撑悬臂梁的厚度/宽度仅为数十微米至数百微米。MEMS扫描镜面采用金属反射薄膜,可以承受的激光功率可达到瓦级以上,因此可以满足信息激光应用的要求。

德国弗劳恩霍夫(Fraunhofer)研究所的科研人员发表的1.064μm激光功率高达2000W的厘米级尺度MEMS扫描镜的研究成果,则证明MEMS扫描镜可以满足激光加工等能量激光应用。激光加工对扫描镜有巨大的需求,仅国内市场每年需求就达到10亿人民币以上,单只激光振镜的价格为数千元,因此开发可以满足激光加工市场的MEMS扫描镜具有巨大的商业价值。

能量激光应用可以划分为十瓦、百瓦和千瓦量级三个层级,我个人认为十瓦、百瓦两个层级的MEMS扫描镜是可以期待的。实现十瓦、百瓦两个层级的MEMS扫描镜的商业应用,则需要在超高光反射率反射镜设计与制造、大镜面尺寸大角度器件设计、MEMS扫描镜传热/散热设计、器件光电封装等技术方面实现突破。

麦姆斯咨询:MEMS扫描镜技术未来的发展趋势是什么?

吴亚明:MEMS扫描镜技术的发展趋势是更好地满足各项应用的技术要求、更低的成本、更高的可靠性。从MEMS扫描镜的技术参数看,发展趋势是大尺寸镜面、大扫描角度,对MEMS三维激光雷达应用;MEMS扫描镜的直径数毫米,水平光学扫描角度高达110°,垂直光学扫描角度25~40°,谐振频率高达数十kHz。从MEMS扫描镜的轴数看,双轴扫描镜是技术发展趋势,这样能大幅度降低封装成本。从MEMS扫描镜的扫描角度精度看,发展趋势是扫描镜集成制造角度传感器,采用闭环控制方法实现对扫描微镜的精确控制。从MEMS扫描镜的驱动方式看,由于压电驱动具有更高的力密度,压电驱动MEMS扫描镜将可能成为技术新方向,值得关注。

麦姆斯咨询:能否请您介绍下您带领的光学MEMS团队的MEMS微镜技术研发及产业化情况?

吴亚明:我所带领的光学MEMS团队来自于中科院上海微系统所的光学MEMS研究组,长期致力于MEMS微镜技术的研发。我们的MEMS微镜技术包括小角度的扭转MEMS微镜和大角度的MEMS扫描镜两种,分别瞄准MEMS智能光通信器件、MEMS激光元器件与MEMS激光显示应用,驱动方式包括静电、电磁和压电驱动三种方式,具有单轴和双轴两种结构。

我带领的光学MEMS团队在上海微技术工业研究院(SITRI)的产业化平台上进行光学MEMS产业化技术的孵化,目前已解决了静电驱动MEMS微镜批量生产涉及的MEMS工艺、批量生产、晶圆级测试、激光划片、TO封装等技术问题,打通了光学MEMS的产业链,在MEMS智能光通信芯片量产的道路上大踏步地前进。与此同时,我们还正在开展静电驱动MEMS扫描镜的产品开发工作,瞄准激光投影、3D感测、MEMS激光雷达、VR/AR近眼显示、条码扫描等应用与市场。下一步我们将瞄准能量激光应用,开发耐受激光功率达到数十瓦级、数百瓦级的MEMS扫描镜,开拓前景广阔的激光加工市场。我们坚信光学MEMS产业前景光明、市场广阔,是MEMS与光电技术的“新蓝海”,可以容纳数家光学MEMS公司共同发展。让我们群策群力,携手共同推动我国的光学MEMS产业快速崛起!

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