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申请(专利)号：

CN201610847069.7

申请日期：

2016.09.23

公开/公告号：

CN107868959A

申请(专利权)人：

中国科学院金属研究所

发明人：

张开悦，刘伟华，刘建国，严川伟

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国省代号：

辽宁;21

摘要：

本发明涉及一种增大泡沫镍电极电化学活性面积的刻蚀方法,属于材料表面处理技术以及电催化领域.本发明以盐酸和氧化剂为主的化学刻蚀液,对泡沫镍电极进行浸泡刻蚀,通过刻蚀时间及刻蚀液浓度的控制,制备出具有大活性面积及高稳定性的泡沫镍电极.所制备电极可为电解水析氢和析氧反应提供更多活性位点,降低电解能耗.同时,本发明刻蚀工艺简单,适用于大规模工业生产.

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主权项：

1.一种增大泡沫镍电极电化学活性面积的刻蚀方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)室温下，将泡沫镍在异丙醇中脱脂除油5～15min，用超纯水进行清洗；然后，放入摩尔浓度为2～4M的盐酸中酸洗活化处理3～5min；最后，放入超纯水中超声清洗1～3min并烘干待用；(2)按以下配方配置化学刻蚀液：盐酸2～3M，铁盐0.5～1.5M，其余为去离子水；(3)将步骤(1)中预处理后的泡沫镍浸入刻蚀液中，刻蚀时间15～25s，刻蚀液温度保持在20～30℃范围；(4)将步骤(3)所制备的泡沫镍电极用超纯水清洗4～6min，烘干后备用。

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