利用光线透过光罩照射在感光材料上，再以溶剂浸泡将感光材料受光照射到的部份加以溶解或保留，如此所形成的光阻图案会和光罩完全相同或呈互补。由于微影制程的环境是采用黄光照明而非一般摄影暗房的红光，所以这一部份的制程常被简称为“黄光”。

1、什么是曝光？什么是显影？

答：曝光就是通过光照射光阻，使其感光，是将涂布在Wafer表面的光阻感光的过程，同时将光罩上的图形传递到Wafer上的过程；显影就是将曝光完成后的图形处理，类似于洗照片，是将曝光完成的Wafer进行成象的过程，通过这个过程，成象在光阻上的图形被显现出来。

2、光刻部的主要机台是什么? 它们的作用是什么?

答：光刻部的主要机台是: TRACK（涂胶显影机）, Sanner（扫描曝光机）.

3、何谓 Track?

答：Photo制程中一系列步骤的组合，其包括：Wafer的前、后处理，Coating（上光阻），和Develop（显影）等过程。

4、为什幺光刻区采用黄光照明？

答：因为白光中包含365nm成份会使光阻曝光,所以采用黄光; 就象洗像的暗房采用暗红光照明。

5、何谓蚀刻（Etch）?

答：蚀刻是将形成在晶圆表面上的薄膜全部，或特定处所去除至必要厚度的制程；蚀刻种类:（1） 干蚀刻（2） 湿蚀刻。

湿式蚀刻：利用液相的酸液或溶剂;将不要的薄膜去除。干式蚀刻：利用plasma将不要的薄膜去除。

6、生产线上最贵的机器是什么？

答：曝光机，绰号是“印钞机”，一天的折旧有好几万人民币之多;所以必须充份利用它的产能；曝光机贵在它的光学成像系统。

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