这些是照明系的主要组成部分，随着技术的发展，厂家加入一些用于提供分辨率的机构来达到要求。比如NIKON有一种变形照明，在光路中加入了一个可以旋转的圆盘，圆盘上有一些用于产生特定图形的东西，如小sigma，annual等等，有的时候还需要两块flyeye来进行光的处理。在ASML的光路里，又会有很多负责产生各种pupil的机构，以及发展到最后，需要偏振光，等等。反正是越先进的东西，里面的镜头用的就越多。stage，直接理解就是工作台。每一片wafer就是放在这个工作台上进行曝光的。因为一个产品不可能只曝一层就可以了，这就需要每一层之间的overlay要非常小，不至于产品报废。Stage的工作精度是保证Overlay的重要因素之一。为什么说“之一”呢？因为曝光的过程是各个module合作的结果，要每一个module都很好才能生产出合格的产品。除了stage，alignment系统和Lens的畸变都会影响到Overlay的结果。

Stage都有那些东西呢？首先要有水平方向移动的驱动部件，比较老的机器如G6和I8等stepper都是有刷电机带动丝杆，等到先进一点的机器如I14，就发展到用线性马达驱动了，stage使用的是气浮台，阻力比丝杆小很多，这样速度也就上去了。除了水平方向，垂直方向也要可以动作，这样才能保证wafer在lens的焦面上工作。熟悉老的机器的TX知道WS专门有一个叫Z-stage的组成部分，它是chuck下面有一个楔形机构，用一个马达拖动，通过这个楔形机构使水平运动转化为垂直运动。等到更先进一点的机器，从I12开始，Z-stage和leveling stage集成到一起，在chuck底下平均分布这三个带楔形机构的马达，叫Z-thita马达，这三个马达向同一方向运动，就能达到Z方向运动的目的，向不懂方向运动，就可以补偿leveling。什么叫leveling？就是找到水平面。这个水平面不是绝对水平面，而是焦面。lens的焦面不可能做到完全水平，多多少少会有一点倾斜，而且wafer表面经过多层工艺，表面上已经是高低不平，所以每次曝光之前都要把这个水平面找到，在leveling系统和leveling stage的共同作用下，补偿这个offset。

除了X，Y，Z(Z-stage)，Rx，Ry(leveling stage)方向的运动，Rz方向也需要的。Rz也就是rotation，补偿的是wafer的rotation。一片wafer放到stage上面，不可能每次都放的非常准，多多少少有一点偏差，XY方向可以用stage的位置来补偿，rotation就要靠thita stage来补偿了。这个stage设计的有点傻，它的旋转支点不在wafer正中间，这样造成补偿thita时候，XY方向也跟着变化。后来的机器（i12开始），就取消了这个stage，直接用reticle rotation来补偿了。

NIKON的stage是一种塔状设计，最底层是XY方向运动的stage，上面是Z-stage，再上面一层就是leveling stage，再上面就是Theta stage，然后就是chuck了。但是从i12开始，Leveing staage和theta stage被取消了，这样就精简了很多，所以i12以后的设计还是比较科学的。

上面介绍了一些stage硬件构成，但是仅仅这些马达不能使stepping精度到达um级别，甚至nm级别（在scanner出现以后，stage的精度需要到nm级别了）。闭环控制很重要的一环就是要有反馈，反馈从哪里来的呢？当然是测量系统给出来的。Stage的stepping精度取决于测量系统和马达的配合。所有的stage的水平方向的运动都是靠HP干涉计来确定的（不管是NIKON还是ASML，CANON都是用HP interferometer，别无二家），它的原理就是迈克尔逊干涉仪和多普勒效应，有兴趣的可以百度一下。最刚开始G6或者g7只用两根激光，X和Y方向各一根，越往后激光用得越多，到后来听说要达到十几根，那时候的控制已经是非常复杂了，超出我所能理解的范畴了。

Reticle stage的设计就没有那么复杂了，它的作用就是找到reticle的mark，把它对准到lens上的reference上，这样就相当于reticle的中心在lens中心了。NIKON的RS有三个马达，只做水平运动，一个X方向，两个Y方向，这样两个Y方向马达控制reticle的ratate

Alignment系统，包括reticle alignment和wafer alignment，最终目的其实就是为了找到reticle的中心，通过镜头的投射，和wafer shot的中心重合。对于G6这种时代的老机器，reticle alignment比较简单。假设lens为不动，在lens边上安装有两个或者三个reticle alignment sensor（取决于机型），这两个sensor机械位置的中心就认为是lens的中心，reticle送到RS上以后，就会search reticle mark，找到sensor的位置，然后把reticle mark对准到这些RA sensor上。对准的原理是跟auto focus一样的基准波和倍周波信号，搞过NIKON的都应该知道，具体请看manual。等到mark都对准到sensor上，reticle alignment就认为结束了，但是sensor有一个误差范围，为了知道这个误差，用stage上的fidicual mark来check reticle在Y方向的误差，就能知道reticle的rotation了。

NIKON 镜头温度要求保持在23°，ASML为22°，为了实现这个目的，机器在镜头周围做了一个与外界隔离的chamber，控制这个charmber的温度保持在23。同时，镜头周围会有cooler，老机器如G6,G7等用LATC（Lens Air Temp. Control), 较新一点的机器就用LLTC(Lens Liquid Temp. Control)了，使用FC77作为热传导的介质，控制FC77的温度在23°，然后将液体循环到Lens cooler里面，从而达到稳定温度的作用。

实现chamber温度的稳定，需要一个大大的空调系统，跟我们家用空调原理一样，需要压缩机，冷凝器，蒸发器还有氟利昂，有时候温度达不到要求，就要考虑是不是要加点氟利昂了。"

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