光刻机是我国突破芯片技术最为核心设备的之一，而我国光刻机的领头企业则是上海微电子。目前，该司已实现了90nm光刻机的量产，但这与国际光刻巨头ASML仍存在较大的技术差距。分析指出，造成这一差距的原因与光源技术有关。

为了着手解决光源技术这一难题，日前华为宣布了一项大动作。据6月7日消息，华为旗下的哈勃投资公司投资了光刻机领域，入股了由中科院微电子所控股北京科益虹源公司，认缴金额达960万元，占股4.76%成为第七大股东。

值得一提的是，科益虹源是中国第一、全球第三的193nm ArF准分子激光器企业，而激光光源是光刻机的三大核心技术之一，只有保障足够的激光光源供应，才能研发出高端的EUV光刻机。

可以说，华为的入局将助力科益虹源在光刻机光源系统的研发上获得更多的资源支持；此外，这也将推动光刻机关键器件的国产化突破，从而为90nm以上更高精度国产DUV光刻机、EUV光刻机的研发攻关提供技术保障。

那么，从国际上看，海外光刻机对华的供货情况如何呢？以ASML最先进的EUV光刻机为例，据悉，一台EUV光刻机的零部件超过10万个，而这些零部件主要来自美国、日本以及德国等国的供应商；但由于ASML使用了美国技术，这也使得该司对华出口部分光刻机产品受到阻碍。

不过，此前ASML首席执行官彼得·温尼克（Peter Wennink）也松口了。5月30日当天，他在公开场合表示，美国的举动正“倒逼”中国加快国产光刻机的研发步伐，从目前的科技水平来看，中国掌握高端光刻机技术的时间将会是在三年后（2024年）。