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1月26日 量子器件中心《造芯大讲堂》第二讲:《步进式光刻机设备介绍与工艺技术应用》 我们知道,光刻机是制造芯片的核心装备,被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”。光刻工艺水平直接决定线芯片制程和性能水平,那么, 光刻机尤其是产线上使用的步进式光刻机是如何工作呢? 如何通过步进式光刻机制造出相应节点的芯片呢? 量子器件中心《造芯大讲堂》系列课程第二讲《步进式光刻机设备介绍与工艺技术应用》,将于1月26日开课。诚邀感兴趣的老师、同学们报名参加! 一、时间、地点 时间:1月26日(周五)下午13:00-17:00 地点:量子器件中心2007教室 二、培训形式和招生范围 (一)培训形式:小班授课(30人) (二)招生范围 1. 对步进式光刻机感兴趣的师生及用户 2. 未来有志于从事芯片制造工作的学生及用户 三、培训师资 张鑫焱,阿斯麦(上海)光刻设备科技有限公司/步进式光刻机资深工程师&售后经理 姚树歆,合光光掩模科技有限公司/总经理CEO 四、培训大纲 《造芯大讲堂》第二讲:步进式光刻机设备介绍与工艺技术应用 (一)步进式光刻机设备介绍与工作原理 (二)步进式光刻机工艺技术及其应用 五、报名方式 感兴趣的老师、同学们请扫描以下二维码报名:
报名截止时间:1月24日(周三)上午12时 我们将从所有报名者中遴选30位左右对课程感兴趣的申请人参加本次活动。报名成功者将收到邮件确认通知。
六、《造芯大讲堂》介绍 量子器件中心自2023年底面向校内师生和广大用户开设《造芯大讲堂》系列培训,将为参训学员带来一系列芯片制造相关的微纳加工设备、工艺以及厂务等方面的知识及实操训练,旨在提升学员在微纳制造方向全方位的综合技能,助其成为未来的微纳制造领域卓越工程师。
培训工作联系人:刘老师,021-20684741
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