微纳加工丨电子束光刻(EBL)技术介绍 |
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矢量扫描模式下,图形的曝光时间与束斑投射次数有关,在固定高斯束(圆形束)斑模式下,我们需要进行 24 次投射。 为了加快曝光速率,图形可分解为最小基本图形的组合,以最小基本图形作为电子束斑的形状。在这种修正束斑模式下只需要 6次投射就可以了。 但是在实际生产过程中图形不是一成不变的,需要经常重设基本束斑形状,因此需要一种更加灵活的投射方式。一种束斑可变的模式能够应用于图形多样化的情况。如下图所示,在可变束斑模式下,电子束斑可根据具体的图形进行调整,改变束斑的基本形状,将投射次数减少到了 3 次。 |
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