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在现今的高科技领域，芯片已经成为了大国必争的“香饽饽”。而对于芯片的生产制造，必不可少的就是光刻机。而在光刻机领域里，能排得上名号的就是荷兰ASML公司和日本的佳能、尼康公司，这三个公司在光刻机领域中三分天下。不过，如果要以实力排个先后，那必然还是荷兰ASML公司。

所谓美国卡我们脖子，其实就少不了通过勒令ASML公司不给我们提供最先进的EUV光刻机。可你知道吗，其实ASML公司的EUV浸润式光刻机研发的背后是一位华裔技术专家。

他叫林本坚，出生于越南，祖籍在广东潮汕，成长于中国台湾。他是全球光刻机领军人物，是一位华裔技术专家，也是浸润式光刻之父。接下来我们就讲讲他的关于研发浸润式光刻机的故事。

根据摩尔定律，每过18个月或者是24个月，成本不变的情况下，芯片上可容纳的晶体管数目会翻一番，性能也会由此翻一番。但是到了20世纪90年代的时候，摩尔定律已经不管用了。虽然早期美国日本有很多光刻机企业，但是这些企业都陷入了困境之中——当时光刻机的光源波长卡在了在193nm，死活也降不下来。

要知道，光源波长越短，芯片制程就会越先进。当时，日本尼康公司提倡使用157纳米的F2激光技术，而由美国牵头的EUV联盟则主张采用十几纳米的极紫外光技术。然而，当时的光源技术并没有取得突破，根本无法满足这两种方案的需求。由此，全世界的半导体行业都陷入了停滞之中。

林本坚就是在这个时候出现的，当时还在台积电工作的他脑洞大开，提供了一个新的解决方案。他主张在镜头和硅片之间加一层水，让光经过水的折射，降为132nm，这样投射到硅片的图案分辨率就会更清晰，晶片密度也可以更高。林本坚通过反复实验，证明了这种方法是可行的，于是信心满满的他拿着方案去跟美日知名半导体公司交涉。

想象很美好，现实很残酷。美日的光刻机巨头企业们对林本坚这种“投机取巧”的方法并不看好，他们认为在镜头和硅片之间加入水会产生水泡并造成污染，从而破坏芯片生产时完全无污染的环境，最后大大降低良品率。美日企业巨头们偏执地认为只有好好研究如何通过光源技术降低光源波长才是正道，林本坚的方法是幼稚的，并不能考虑采用。

被拒绝的林本坚并没有放弃，他不断优化改良方案，一次次地上门推荐自己的技术。然而这并没有让美日企业们另眼相看，而是不耐烦的给台积电CEO写信，让他管管自己的下属，不要再去打扰他们了。

无奈之下林本坚只好找上了当时还籍籍无名的荷兰ASML公司，当时的ASML公司可以用小作坊来形容，整个公司也就30来号人，老板身兼数职，充当保安和出纳。可以说完全不能跟尼康比，但就是这样的一家公司，他们很认可林本坚的方案，并为此投入资金让林本坚大展身手。

林本坚也没有让ASML公司失望，不到一年，林本坚就研发出了132nm的浸润式光刻机。ASML也由此一夜山鸡变凤凰，一举打破了当时日本尼康的垄断地位，成为行业老大。后来虽然尼康也采用相同的方法研发出了浸润式光刻机，但是后来者很难居上，尼康始终被ASML压了一头。

林本坚也因此一举成名，不过，这样一位名号响当当的华裔技术专家，却从来不跟中国大陆打交道，这是怎么回事呢？

我们可以从网易新闻对林本坚的采访中窥见一二，采访中林本坚被问到对中国大陆的看法，林本坚是这样回答的，他说：“我认为大陆有很好的先天条件，一是有市场，二是有人才。这些都有了，但是你需要让他们觉得半导体很重要，现在的年轻人要做很多别的事情，这些都是要去努力的。”

从他的回答中午我们可以明白，虽然现在中国大陆具备发展半导体的潜力，但是现在的新生一代并没有意识到发展半导体的重要性，注意力被别的事情吸引过去了，所以中国大陆想要发展半导体，有一些障碍需要突破。

相比于中国大陆，中国台湾对于半导体行业的注重性和用人待遇上都要比中国大陆好，这可能就是林本坚没有选择来中国大陆的原因吧。

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