Layout常见错误汇总 |
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2020.10.8 周四 1、在做LVS时,出现中断错误 2、layout和schematic进行元件对应的时候,terminal只有schematic中的,layout中没有显示terminal,如何在layout中添加terminal? 2020.10.12 周一 看到一个关于LVS验证的常见错误集 https://wenku.baidu.com/view/25833421af45b307e87197ee.html 3、从schematic导入到layout的元件,竟然在跑LVS验证的时候,报L不对应的问题 也没差什么呀,又重新导入一遍,还是如此,那既然报错说layout的L小了,我就把layout里面该元件的Segment length(M)从原来的11.88u改成了schematic里面更为精确的11.885u,结果LVS就通过了。惊了,还有这样的操作~ 4、今天又遇到了第一个问题(1) 在做LVS测试的时候,schematic和layout对应不了,使用(1)检查了元件和端口的对应并重新建立了新的cell(schematic和layout的),依旧没有解决。 我回想,刚刚改动了什么,改变了子子元件(下2层元件)的schematic,然后我从在子元件(下1层)和本层的schematic中重新“i”了改动过的symbol,然后“ctrl+x”保存,重新载入对应的layout,连接好。 2020.11.18 周三 5、layout里面加上了IO口,一直通过不了LVS验证,报下面的错误: 2020.12.1 周二 6、画版图的几点经验: ①、小视野时,使用复制“C”、移动“M”和鼠标拖动的时候一定要谨慎,可能不小心把大块版图复制或是平移导致大量DRC错误。 ②、当只显示某层或是某几层的时候,也要谨慎使用框选后复制“C”、删除等功能,可能会不小心顺带着把其他看不见层中的东西一块平移掉或是删掉,造成错误。 ③、 7、跑LVS顺带跑ERC,报了如下warning: 9、流片是几个设计拼成一个面积,所以在最顶层流片时候DRC中的密度DN问题是需要解决的,有些使用的元件为了自身保护会自己带DMEXCL层,目的是在自动生成dummy时候,该层圈起来的地方不会填入dummy会避开,这时候为了能通过密度检测,需要我们手动画入对应金属层的dummy小方块。 以M9密度达不到为例,先打开DNW层,把现实密度问题的DNW框里面铺满3u*3u的方形M9(dm)层,M9(dm)相互之间、M9(dm)与M9(drw)之间间距需要大于3um。 经验:如果使用复制、拖动或是删除操作要特别小心,因为如果框选可能会框上其他的零散结构,我的经验就是一个个点击选择M9(dm)小方框进行复制、删除、移动操作。需要耐心和细致~ 2021年10月8日 周五 1、PEX提参报错 2022年8月4日 周四 1、PEX提参报错—XDB failed |
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