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MBE 系统
Veeco 可提供业内最广泛且具有创新及可靠性能的分子束外延 (MBE) 系统。
GENxplor R&D MBE 系统
GENxplor® 系统是市场上最先进的高性能研发系统，由领先研究人员选择，以增长……
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GEN10 MBE 系统
3" 晶片 GEN10™ 系统建立在超过 20 年累积的自动化传输知识和衍生的……
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GENxcel R&D MBE 系统
屡获殊荣的 GENxcel™ 系统专为化合物半导体研发和生产前市场而设计。灵活的设计……
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GEN20 MBE 系统
GEN20™ 是一款灵活的分子束外延 (MBE) 系统，具有可配置的设计，用于生产所有复合半导体材料。关键……
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GEN200 MBE 系统
Veeco 的 GEN200® 分子束外延 (MBE)系统是同类别中最经济高效且产量最高的多晶片生产 MBE 系统，能够提供卓越的生产能力……
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GEN2000 MBE 系统
GEN2000® 分子束外延 (MBE) 系统为大批量生产应用提供无与伦比的吞吐量和拥有成本。
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技术与产品
激光加工系统
光刻系统
离子束系统
沉积系统
溅射系统
蚀刻系统
离子源
有栅 DC 离子源
无栅 End-Hall 离子源
有栅 RF 离子源
类钻碳
金属有机化学气相沉积系统 (MOCVD)
湿法处理系统
分子束外延 (MBE) 技术
MBE 系统
MBE 源
掺杂剂
高温
低温
中温
专用源
MBE 组件
原子层沉积 (ALD)系统
原子层沉积 (ALD) 概述
ALD 优势
用于研究的 ALD
用于生产的 ALD
有关 ALD 的行动
ALD 材料
ALD 应用
用于 3D 纳米加工的 ALD
III-V 半导体器件
电池
硫属元素化物
电子
封装
自组装单分子膜 (SAMS)
水分解
ALD 知识中心
ALD 周期表
ALD 研究
ALD 服务
物理气相沉积系统
切割和研磨系统
气体及气相传送系统
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