CAS号：75-77-4

MDL号：MFCD00000502

EINECS号：200-900-5

RTECS号：VV2710000

BRN号：1209232

PubChem号：24892952

1.性状：无色至淡黄色透明液体，有刺激性气味。[18]

2.熔点（℃）：-57.7[19]

3.沸点（℃）：57[20]

4.相对密度（水=1）：0.85[21]

5.相对蒸气密度（空气=1）：3.8[22]

6.饱和蒸气压（kPa）：26.7（20℃）[23]

7.临界压力（MPa）：3.36[24]

8.辛醇/水分配系数：2.48[25]

9.闪点（℃）：-18（OC）[26]

10.引燃温度（℃）：395[27]

11.爆炸上限（%）：6[28]

12.爆炸下限（%）：1.8[29]

13.溶解性：溶于苯、甲醇、乙醚、全氯乙烯。[30]

1、皮肤/眼睛刺激性

标准的Draize试验：兔子，皮肤接触：500μL；反应的严重程度：中度。

标准的Draize试验：兔子，眼睛接触：5μL；反应的严重程度：中度。

2、急性毒性：大鼠经口LD50：5660μL/kg；小鼠经吸入LCLo：100mg/m3；小鼠经腹腔LCLo：750mg/kg；兔子经皮肤接触LD50：1780μL/kg；

3、慢性毒性/致癌性 小鼠经腹腔TCLo：1000mg/kg/I；

4、致突变性 微生物鼠伤寒沙门氏菌突变：1mg/plate；

5.急性毒性[31]  LD50：5660μl（4811mg）/kg（大鼠经口）；1780μl（1513mg）/kg（兔经皮）

6.刺激性[32]

家兔经皮：500μl，中度刺激。

家兔经眼：5μl，中度刺激。

7.致突变性[33]  微生物致突变：鼠伤寒沙门菌1mg/皿。

对水稍微危害，避免未稀释或大量的产品接触地下水、水道或污水系统。

1、摩尔折射率：29.51

2、摩尔体积（cm3/mol）：125.1

3、等张比容（90.2K）：249.1

4、表面张力（dyne/cm）：15.6

5、极化率（10-24cm3）：11.70

1.疏水参数计算参考值（XlogP）:无

2.氢键供体数量:0

3.氢键受体数量:0

4.可旋转化学键数量:0

5.互变异构体数量:无

6.拓扑分子极性表面积0

7.重原子数量:5

8.表面电荷:0

9.复杂度:28.4

10.同位素原子数量:0

11.确定原子立构中心数量:0

12.不确定原子立构中心数量:0

13.确定化学键立构中心数量:0

14.不确定化学键立构中心数量:0

15.共价键单元数量:1

1.稳定性[34]  稳定

2.禁配物[35]  强酸、强碱、水

3.避免接触的条件[36]  潮湿空气

4.聚合危害[37]  不聚合

5.分解产物[38]  氯化氢

储存注意事项[39] 储存于阴凉、干燥、通风良好的库房。远离火种、热源。库温不宜超过37℃，保持容器密封。应与酸类、碱类等分开存放，切忌混储。采用防爆型照明、通风设施。禁止使用易产生火花的机械设备和工具。储区应备有泄漏应急处理设备和合适的收容材料。

1.氯甲烷与硅粉在氯化亚铜催化下一步直接合成，生成甲基氯硅烷混合物，经精馏提纯可得三甲基氯硅烷及其他单体。实验室制备可将四甲基硅烷与乙酰氯在三氯化铝存在下反应。

2.将粗品（或工业品）三甲基氯硅烷与三氯化铝、三溴化铝或氢氧化铁于60℃下，一起搅拌10min，然后蒸馏，可得纯净产物。

3.氯甲烷与硅粉在氯化亚铜催化剂存在下，于300～550℃以上高温一步合成，所得甲基氯硅烷混合物经精馏提纯得三甲基氯硅烷。

4.将17.5g的四甲基硅烷迅速加到冰盐浴冷却下的26.5g的精制三氯化铝中，搅拌下，滴加16ml乙酰氯。乙酰氯的滴加速度以维持适当回流为佳，40min完成滴加过程，滴加结束后，搅拌反应1h，蒸馏可得20.8g三甲基氯硅烷。反应为：

1.用作硅酮油制造的中间体、憎水剂、分析用试剂。

2.用作气相色谱衍生化试剂，用于无位阻的羟基、氨基和羧基等的硅烷化。还用于有机合成。

3.羟基、氨基、羰基的硅烷化试剂。用于制备其挥发性衍生物以进行气相色谱分析。酯的酮醇缩合，α、ω一二酸酯的缩合环化，丙二酸酯的酰化。由氨基甲酸醋制异似酸酯。由羰基化合物制烯醇硅烷醚。由酮制烯胺。芳环的还原硅烷化，等等。

4.三甲基氯硅烷多用来合成硅醚类化合物、乙烯基硅烷，也可用作含羟基化合物如醇类的保护基，另外它还用在叔丁氧羰基(BOC)等的去保护反应中。

作为保护基团  三甲基氯硅烷的一个重要应用是用作醇类[1]、酚[2]、端炔[3,4]等的保护基团，反应后生成含有三甲基硅基的化合物。在与醇类化合物反应中，TMSCl在碱如三乙胺、DMAP等的作用下生成硅醚化合物，使用该方法可将伯、仲、叔醇中的醇羟基保护 (式1)[1]。

在类似条件下，TMSCl也可以与酮类化合物反应，生成烯醇醚类化合物 (式2)[5~7]。三甲基硅基在酸的作用下极易脱去。

对端炔而言，在锂、锌试剂等的作用下，端炔可与TMSCl直接作用而生成硅烷化合物 (式3)[3,4]。

在强碱作用下，TMSCl也能够在芳香环上引入三甲基硅基 (式4)[8]。

加成反应  在过渡金属催化剂或三苯基膦等的参与下，环氧化合物可直接与TMSCl反应开环，产物为O-端保护的硅醚化合物，脱去硅基团即可得到醇类化合物 (式5)[9,10]。

TMSCl还可与含有α,β-不饱和羰基的化合物发生1,4-共轭加成反应 (式6)[11~14]。

消除反应  在TMSCl与催化剂存在下，环氧化物或烯丙醇衍生物能够发生脱氧反应，生成碳-碳双键化合物 (式7)[15,16]。

硅基乙烯基累积二烯烃的形成  在过渡金属催化剂的作用下，烯、炔能与TMSCl发生偶合，生成累积二烯烃，该产物可进一步被氧化为α,β-不饱和酮 (式8)[17]。

5.用作硅酮油制造的中间体、憎水剂、分析用试剂。[40]

危险运输编码：UN 1298 3/PG 2

危险品标志：易燃 腐蚀

安全标识：S16 S26 S45 S36/S37/S39

危险标识：R11 R14 R21 R34

1. Harding, W. W.; Tidgewell, K.; Byrd, N.; Cobb, H.; Dersch, C. M.; Butelman, E. R.; Rothman, R. B.; Prisinzano, T. E. J. Med. Chem., 2005, 48, 4765. 2. Heurtaux, B.; Lion, C.; Gall, T. L.; Moiskowski, C. J. Org. Chem., 2005, 70, 1474. 3. Jiang, H. L.; Zhu, S. Z. Tetrahedron Lett., 2005, 46, 517. 4. Poupon, J.-C.; Demont, E.; Prunet, J.; Férézou, J.-P. J. Org. Chem., 2003, 68, 4700. 5. Lessene, G.; Tripoli, R.; Cazeau, P.; Biran, C.; Bordeau, M. Tetrahedron Lett., 1999, 40, 4037. 6. García-GoÂmez, G.; MoretoÂ, J. M. Chem. Eur. J., 2001, 7, 1503. 7. Hayashi, T.; Tokunaga, N.; Inoue, K. Org. Lett., 2004, 6, 305. 8. Luliński, S.; Serwatowski, J. J. Org. Chem., 2003, 68, 9384. 9. Wang, L.-S.; Hollis, T. K. Org. Lett., 2003, 5, 2543. 10. Xu, L.-W.; Li, L.; Xia, C.-G.; Zhao, P.-Q. Tetrahedron Lett., 2004, 45, 2435. 11. Lee, P. H.; Seomoon, D.; Lee, K.; Heo, Y. J. Org. Chem., 2003, 68, 2510. 12. Lee, P. H.; Lee, K.; Sung, S.-Y.; Chang, S. J. Org. Chem., 2001, 66, 8646. 13. Takasu, K.; Mizutani, S.; Ihara, M. J. Org. Chem., 2002, 67, 2881. 14. Carreño, M. C.; Sanz-Cuesta, M. J. J. Org. Chem., 2005, 70, 10036. 15. Lee, H.-Y.; Kim, Y. J. Am. Chem. Soc., 2003, 125, 10156. 16. Hardouin, C.; Doris, E.; Rousseau, B.; Mioskowski, C. J. Org. Chem., 2002, 67, 6571. 17. Hayashi, T.; Tokunaga, N.; Inoue, K. Org. Lett., 2004, 6, 305. [1~17]参考书：现代有机合成试剂；胡跃飞 付华 编著；化学工业出版社；ISBN 7-5025-8542-7 [18~40]参考书：危险化学品安全技术全书.第一卷/张海峰主编.—2版.北京；化学工业出版社，2007.6 ISBN 978-7-122-00165-8

暂无

质谱图 (1/4)

核磁碳1 (2/4)

核磁氢1 (3/4)

红外图谱ir1 (4/4)