FEI公司简介

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FEI公司简介

2023-12-20 17:45| 来源: 网络整理| 查看: 265

美国FEI Company于1997年由美国FEI公司与荷兰皇家飞利浦公司电子光学部合并而成,是一家研发、生产、经营多种电子显微分析仪器的业内领先企业。

为全球纳米技术团体提供世界级的显微镜学解决方案。 公司名称:FEI公司 公司口号:Explore, Discover, Resolve 公司总部:美国俄勒冈州希尔斯伯勒(Hillsboro) 年营业额:8.92亿美元(2012年) 成立时间:1971年 纯收入:1.15亿美元 (2012) 经营范围:科学和技术仪器,主营电子显微镜 员工数:2518人(2012) 公司性质:美国独资,公立,上市 创始人:Lynwood Swanson博士 服务范围:全球 现任CEO: Don R. Kan

成就 凭借过去 60 年的技术创新历史和业内领导地位, FEI 成为了透射电子显微镜 (TEM)、 扫描电子显微镜 (SEM)、整合了 SEM 与聚焦离子束 (FIB) 的 DualBeam™ 仪器和 用于精密高速切割与加工的专用聚焦离子束仪器的 性能标准。 FEI 成像系统在三维 表征、分析和修改/原型设计领域实现了 亚埃(埃:十分之一纳米)级分辨率。 国外服务 FEI NanoPorts 在中国上海,美国俄勒冈州波特兰,日本东京,荷兰埃因霍温和捷克均有设点,它们都是卓越中心。在这里,众多科学家、研究者以及工程师 都可在 FEI 应用专家的直接帮助下体验世界级显微分辨率。 本公司有近 1800 名员工,已在全球超过 50 个国家或地区开展了销售和服务业务。

FEI当之无愧是全球最顶尖的纳米级研究、探索和设计的引领者,其产品包括:透射电子显微镜(TEM)、扫描电子显微镜(SEM)、聚焦离子束(FIB)以及SEM/FIB“双束”显微镜等,可为诸多行业的研发、品控或监管提供全面的纳米与原子尺度表征、分析、加工及原型设计工具,这些行业横跨:材料科学、纳米科学技术、生物工程、生命科学、医药、半导体、数据存储、自然资源等等众多领域。

凭借过去 60 多年的技术创新历史和业界领导地位, FEI 的TEM、 SEM、 DualBeamTM仪器和专用FIB仪器的性能参数指标成为了业界同类产品的标杆。

FEI NanoPorts 在日本东京、美国俄勒冈州波特兰、荷兰埃因霍温和中国上海均有设点,它们都是卓越的纳米港中心。在这里,众多科学家、研究者以及工程师都可在 FEI 应用专家的直接帮助下体验世界级显微分辨率。本公司有近 2200 名员工(其中超过400人从事R&D),已在全球超过 60 个国家或地区开展了产品销售和技术服务业务。

公司历史 最初的FEI公司由L.W. Swanson博士, N.A. Martin先生,L. Swenson先生,和J. Orloff博士于1971年创建的。FEI公司1981年创始液态金属离子束源,使其在半导体行业维修和缺陷分析面具方面得以运用。目前的FEI公司是由1997年最初的FEI公司和Philips Electron Optics的合并,以及1999年收购离子束Micrion公司的组合。

FEI发展历程

·1949年 Philips Electron Optics(飞利浦电子光学)成立,发布了全球第一台商用TEM。

·1958年 飞利浦电子光学推出的EM200突破了10Å的TEM分辨率。

·1966年 飞利浦电子光学交付固态分辨率5Å的TEM。

·1971年 FEI成立,主要生产聚焦离子束产品,并致力于提供用于场发射电子枪的高纯度、定向单晶体材料。

·1975年 飞利浦电子光学推出EM400 TEM,成为现代透射电镜发展的基础。

·1977年 飞利浦电子光学发布全球第一台场发射TEM。出台高分辨率SEM。

·1981年 FEI研制出液体金属离子源(LMI)。

·1982年 FEI第一个LMI聚焦离子束镜筒交付使用。

·1983年 FEI第一个静电场聚焦离子束镜筒交付使用。Micrion成立,它专注于研制用于光罩修补的离子束系统。

·1985年 Micrion第一台聚焦离子束系统交付使用。

·1986年 飞利浦电子光学推出计算机控制TEM系统。

·1989年 ElectroScan推出全球第一台环境扫描电镜(ESEM)。FEI第一台完整的聚焦离子束(FIB)工作站交付使用。

·1990年 飞利浦电子光学发布全球第一台PC控制的扫描电镜XL系列。

·1993年 交付一体化集成TecnaiTM TEM。FEI同飞利浦电子光学联合发布第一台双束DualBeamTM(FIB/SEM)工作站。

·1996年 FEI交付第5000只LMI源。飞利浦电子光学收购ElectroScan及环境扫描电镜(ESEM)技术。飞利浦电子光学收购位于捷克共和国布尔诺的Delmi公司。

·1997年 FEI与飞利浦电子光学合并为现今的FEI公司。交付第一台嵌入式晶圆制程DualBeamTM系统。

·1998年 发布PC控制的一体化集成TEM(TecnaiTM)。推出全球第一台应用于自动缺陷分析检测的DualBeamTM。

·1999年 FEI兼并Micrion(聚焦离子束产品)。

·2000年 推出第一台小样品DualBeamTM系统。

·2001年 推出实验室专用DualBeamTM系统。发布第一台配有单色器的TEM。

·2004年 使用配有单色器和球差矫正器的透射电镜200KV TecnaiTM,突破了透射电镜分辨率1Å的极限。

·2005年 推出全球功能最强大的商用透射电镜TitanTM 80-300KV(S/TEM),其分辨率可达亚埃级。

·2006年 第一台美国能源部专用带像差矫正透射电镜(TEAM)交付,分辨率达到0.5Å。

·2008年 发布一款极高分辨率的扫描电镜Magellan XHR,其在低束流(低射束能量)模式下可达亚纳米级分辨率。

FEI(中国) FEI(中国)包括以下办事机构: ·FEI香港有限公司:中国(含香港和澳门)运营中心 ·上海办事处:东区销售及售后服务中心,全国总办事处 ·北京办事处:北区销售及售后服务中心 ·广州联络处:南区销售及售后服务中心 ·成都联络处:西区销售及售后服务中心 ·上海纳米港:提供参观及技术交流服务 ·其他服务点:除以上之外,在东莞、武汉、沈阳和大连设有售后服务点。   FEI(中国)有超过70名员工,其中60%以上是应用技术专家及售后服务工程师,他们认真负责的服务态度及其优良的技术水平在业界同行中卓尔不群。   FEI(中国)在国内定期和不定期地举办各类用户会议、技术交流会、讲座、专题培训等学术活动,同时大力支持中国物理学会电子显微镜分会以及其他相关学术社团开展的学术活动。

公司产品:

扫描电子显微镜 (SEM) 扫描电子显微镜的放大倍数范围可从光学显微镜观察尺度一直扩展至纳米尺度,实为检查材料形貌的合适之选。 FEI 扫描电子显微镜 (SEM) 以精确聚焦的电子束扫描样品表面,然后借助各种探测器检测电子束-样品相互作用结果,以此生成图像。 FEI SEM既可工作于高真空也可工作于低真空模式,既可使用提供表面信息的的二次电子探测器也可使用提供成分信息的背散射探测器及其他各种探测器。 Magellan™ XHR 扫描电子显微镜 Magellan XHR 扫描电子显微镜 (SEM)让科学家和工程师迅速看到以前无法视及的微观世界,如分辨率小于一纳米的不同角度的三维表面图像(大约 10 个氢原子的直径)。 最重要的是,Magellan XHR SEM可在超低电子束能量下成像,避免因电子束渗透至材料表面下方造成图像变形。 Quanta™ 扫描电子显微镜 Quanta 扫描电子显微镜是一款高性能的多功能电子显微镜,提供三种操作模式(高真空、低真空和 环扫 (ESEM)),它是所有扫描电镜中能看最多样品类型的一款扫描电镜.。 所有 Quanta SEM 系统均配置分析系统,如能谱仪,X射线波谱仪和电子背散射衍射分析系统。 此外,场发射 (FEG) 系统配备扫描透射(S/TEM) 探测器,以实现明场和暗场样品成像。 Nova™ NanoSEM 扫描电子显微镜 Nova 系列扫描电子显微镜 (SEM) 具有低真空功能。 Nova 系统包含 EBIC、冷冻样品台、STEM、EDS、WDS 和 EBSD。 Inspect™ 扫描电子显微镜 Inspect 系列拥有两款扫描电子显微镜,一款采用钨灯丝,另一款采用 FEG,均可用于常规高分辨率成像。 透射电子显微镜 (TEM) FEI 透射电子显微镜 (TEM) 可实现完全一体化的自动化操作,适合各种要求亚埃级超高分辨率的应用。 透射电子显微镜利用电子束照射超薄(0.5 µm 或更小)样品, 通过探测穿透样品后到达电磁透镜系统的电子即可记录图像,而此电磁透镜系统可聚焦并放大到荧光屏幕、感光胶片或数码相机上来成像。 透射电子显微镜的放大倍数可达 100 万倍以上。 Titan™ 扫描/透射电子显微镜 FEI Titan S/TEM 产品系列包括全球功能最强大的商用 S/TEM: Titan 80-300、Titan Krios™、Titan3™ 和 Titan ETEM(环境 TEM)。 所有 Titans 均使用革命性的 80-300 kV 电子镜筒,通过 TEM 和 STEM 模式在各种材料和操作条件下进行亚埃级原子尺度的发现和探索。 Tecnai™ 透射电子显微镜 Tecnai 系列透射电子显微镜旨在满足材料科学, 生命科学和软物质研究、半导体和数据存储行业以及世界各地顶级多用户实验室对高衬度成像的需求。 DualBeam™ 仪器 (FIB/SEM) 结合了聚焦离子束和扫描电子显微镜。 FEI 的双束 (DualBeam) 仪器结合了聚焦离子束工具的铣蚀功能和扫描电子显微镜的成像能力与分辨力。 这些尖端仪器是三维显微学和材料表征分析、工业故障分析以及工艺控制应用的首选解决方案。 这些仪器旨在为高产量半导体与数据存储制造行业以及材料科学与生命科学实验室提供整合式样品制备和 1nm 尺度内的微量分析。 Quanta™ 3D DualBeam™ 它适用于二维和三维材料表征和分析。Quanta™ 3D有三种 SEM 成像模式(高真空、低真空和环境 SEM),它可观察的样品是在任何 SEM 系统中最广泛的。 整合的聚焦离子束 (FIB) 功能增加了截面操作能力,使应用范围得到进一步扩展。 ESEM 模式实现了在不同相对湿度(最高 100%)和温度(最高 1500° C)条件下进行各种材料动态行为的原位研究。 Helios NanoLab™ DualBeam™ Helios NanoLab 拥有出色的成像能力,因其具有一个新型电子束镜筒,该镜筒配备一整套探测器,并包括可生成极佳衬度和分辨率的新型成像链。同时,聚焦离子束 (FIB) 的优异性能则使快速铣蚀和样品制备应用成为可能。 Versa™ 3D DualBeam™ 凭借强大的历史背景,凭借由 FEI 首创并大获成功的的 DualBeam、低真空和 ESEM 专门技术,FEI 引进了目前功能性最强的 DualBeam 仪器。 Versa 3D 为您提供最佳成像和分析性能,即使是最具挑战性的样品也可得到大量的的三维数据。 聚焦离子束 (FIB) 仪器 揭示材料和设备表面下的缺陷 聚焦离子束系统 (FIB) 是一个非常类似于聚焦电子束系统(如扫描电子显微镜)的工具。 这些系统令离子束指向样品,然后离子束经相互作用可产生一些信号,通过将这些信号映射至离子束位置即可生成高放大倍数的样品图像。 聚焦离子的质量比电子质量大很多倍,因此当其撞击材料时,这些离子会使材料表面的原子溅射出去。 此外,可以将气态化学物质注入到材料表面附近,然后进行材料沉积或依材料而定的选择性蚀刻。 Vion Plasma FIB 仪器 The Vion PFIB 等离子 FIB 是一部具有高精密、 高速度切割和铣蚀能力的仪器。 其具有选择性铣蚀所关注区域的 能力。 此外,PFIB 还可以选择性沉积 带图案的导体和绝缘体。 V400ACE™ 聚焦离子束仪器 V400ACE 聚焦离子束 (FIB) 系统融入了离子镜筒设计、气体输送和终端探测技术的最新发展成果,以便实现快速、有效、具成本效益的高级集成电路编辑。 电路编辑使产品设计人员可在数小时内修改导电路径并测试已修改的电路,而不必花费数周甚或数月时间来生成新掩模和加工新晶片。 V600™ and V600CE™ 聚焦离子束仪器 V600 系列聚焦离子束 (FIB) 仪器为一般用途的编辑和调试提供完整的解决方案。 在 FEI FIB 200 现场使用获得成功的基础上,V600 FIB 可实现有效横截面操作、成像以及透射电子显微镜 (TEM) 样品制备所需的新一代灵活和性能。 V400ACE 聚焦离子束 (FIB) 系统融入了离子镜筒设计、气体输送和终端探测技术的最新发展成果,以便在 65 nm 技术节点或更细微处实现快速、有效、具成本效益的高级集成电路编辑。 专业产品 适于专业应用的定制产品 Vitrobot™ Mark IV Vitrobot Mark IV 是适用于水性(胶质)悬浮物速冻的全自动玻璃化设备,可满足现代科学研究的需求。 其全新设计的触摸屏用户界面功能强大,易于使用,而其自动装置能保证高质量的可重复性样品冷冻和高样品生产量。 MLA 和 QEMSCAN QEMSCAN 和 MLA 是专业的自动化矿物学解决方案,可对与采矿和能源行业勘探、开采和自然资源加工(矿产、煤炭、石油和天然气)的商业应用密切相关的特征进行成像和量化。 这些技术实现了米和纳米之间的跨接,这对于参与矿物、岩石和人造材料表征的地质学家、矿物学家和冶金学家而言至关重要。 CLM+ Full Wafer DualBeam™ 现今对流程控制和失效分析设备的高分辨率图像的需求日益增长,这也在不断驱动对 TEM 成像技术的需求。 FEI CLM+ 特别适合用来生成非原位脱模和成像用的关键 TEM 薄片。 Sidewinder 离子镜筒可以制备高生产量薄片,同时其卓越的低压性能可确保精确 TEM 成像和 EDS 分析所需的无损伤铣蚀表面。 无与伦比的切割定位可确保准确捕捉所需的目标特征。


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