Proe/Creo软件作为目前国内工业产品结构设计主流软件之一，在日常工作中占据了重要地位，而软件提供的阵列命令也是具有其强大的功能，各类书籍、资料中都会花很大的篇幅来进行解释说明，今天的文章就结合一个VIP学员问到的小案例来和大家一起学习阵列中的那些小技巧。

阵列特征分析：

从图片的效果可以看出：孔由中心往外渐变，且孔径和每个周圈之上分布孔的数量也是逐渐递增的。

具体怎么去控制这些增量呢？以前往下看吧！

STEP1:拉伸如图基体特征，尺寸随意

STEP2:创建第一个孔特征

注意：基于前文的分析，每个周圈上分布孔的数量为递增的效果，故对第一周圈上孔进行轴阵列时须通过参数来控制阵列数量，具体做法如下

①新建参数

②新建草绘约束参数（ivcreo）的值，草绘中创建基准点，并对尺寸值进行关系约束

③拉伸创建第一个孔，截面如图，并拉伸去除材料

STEP3:阵列第一周圈圆孔特征

①轴阵列，均匀分布，阵列数量随意

②对轴阵列数量添加【特征关系】然后重新生成模型

STEP4:阵列整体圆孔特征

①将step2、3两部所创建特征分组

②对分组进行尺寸阵列，增量根据效果自定

最终效果：

[责任编辑]：一加一学院·思琪

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