gmid设计方法进行二级运放的设计与仿真

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gmid设计方法进行二级运放的设计与仿真

2024-03-26 10:24| 来源: 网络整理| 查看: 265

该文章使用gmid设计方法进行二级运放的设计与验证

文章目录 设计要求一、设计原理图二、设计步骤1.确定补偿电容Cc的大小2.在满足压摆率的情况下,按最大功耗分配电流3.根据GB确定M1和M2的跨导gm1,24. 利用gmid设计方法确定M1、M2的尺寸5.进一步确定M3、M4的尺寸6.第二级运放M6、M7尺寸的设计7.其余mos管尺寸的确定 三、仿真验证1.开环增益和相位的仿真2.验证功耗与压摆率3.验证输出摆幅 总结

设计要求

设计二级运放,设计指标如下表所示: 在这里插入图片描述

一、设计原理图

在这里插入图片描述 第一级选择单端输出的全差动电路提供较高的增益,第二级选择共源极放大电路上下二极管各消耗一个过驱动电压Vod,满足输出电压摆幅要求。

二、设计步骤 1.确定补偿电容Cc的大小

Cc取值通常为负载电容CL的0.22倍左右,暂取Cc=0.44pF,后续可根据相位裕度进行调整2.读入数据

2.在满足压摆率的情况下,按最大功耗分配电流

由P=VDD*Isum≤1mW得Isum≤555uA 由SR=I5/CL>3V/µs得I5>6uA 根据上述两个条件进行电流的分配I5=80uA,I7=400uA,I8=40uA

3.根据GB确定M1和M2的跨导gm1,2

在这里插入图片描述

4. 利用gmid设计方法确定M1、M2的尺寸

对增益Av进行解算。整体的增益是1000,那就令第一级的增益为100,第二级的增益为20 为了让压摆率满足需求,gm/id就不能取太大,以此来保证电流不会太小,这里gm/id取值为12。观察晶体管的gmro - gmoverid曲线,找出在gm/id=12时,哪个沟道长度L下的增益大于100,看图可知L>400nm即可,最终确定L1,2=500nm。 在这里插入图片描述 在这里插入图片描述

再观察idoverw - gmoverid曲线,得到gm/id取值为12下的电流密度约为7 在这里插入图片描述 在这里插入图片描述

5.进一步确定M3、M4的尺寸

步骤和前面确定NMOS的尺寸一样,此时选取gm/id=8,gmro大于100时沟道长度应满足L≥400nm即可,最终确定L_3,4=1um。 在这里插入图片描述 在这里插入图片描述

观察L=1um下PMOS的idoverw - gmoverid曲线,得到gm/id取值为8下的电流密度约为3 在这里插入图片描述 在这里插入图片描述

6.第二级运放M6、M7尺寸的设计

第二级运放采用电流源负载的共源极。增益为20,由于第二级n管流过较大的电路,通过观察gmid曲线可知n管在栅长为180nm情况下即可满足本征增益40的要求,由于运放第二级流过较大的电流,故增加栅长,取L_7=500nm;为保证系统的稳定性和相位裕度,设计第二级运放输入管的跨导为第二级输入管跨导的10倍, 在这里插入图片描述

对第二级负载管M6来说,观察p管的gmid曲线,L=1um,gmid=8时, 在这里插入图片描述

由于宽长较大,由p管的gmro-gmid曲线可知L=180nm即可满足本征增益60的要求,故在保持M6宽长比不变的情况下减少W和L,取L6=500nm,W6≈66um

7.其余mos管尺寸的确定

由M8、M5、M7的电流镜匹配关系,以及功耗的要求I8≤50uA,取偏置电流Ibias=40uA,则L8=500nm,W8=5.7um,L5=500nm,W5≈11.4um 设计至此得到各管的尺寸如下表所示: 在这里插入图片描述

三、仿真验证

在进行相关指标的仿真之前,首要任务是确认运放的DC工作点、失调电压,而后基于该静态工作点搭建电路进行其余指标的仿真。

1.开环增益和相位的仿真

初始时设置补偿电容Cc=0.44pF相位裕度约为25°,为满足相位裕度60°的要求调整补偿电容Cc=2PF 在这里插入图片描述 输出波特图如图所示:运放开环增益为72dB(约4000倍),-3dB带宽约为9KHZ,单位增益带宽约为39MHz,相位裕度为60°,均满足了设计指标要求。

2.验证功耗与压摆率

运放工作时,总电流I_sum=I8+I5+I7=40uA+81uA+428uA≈550uA,VDD=1.8V,Pdiss0.22CL;在设计时要格外注意相位裕度,对于Cc的取值需要改变数值多仿真来确定最终值,使其相位裕度达到60°。 二级运放的设计到此就告一段落了,关于该运放的相关指标的验证仅展示一部分,例如还可以进行共模抑制比、电源抑制比以及噪声等的仿真。



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