SK海力士在半导体领域再次迈出创新步伐，计划在其第6代（1c工艺，约10nm）DRAM的生产中，首次采用Inpria的下一代金属氧化物光刻胶（MOR）。这一突破性的应用标志着MOR技术正式进入DRAM量产工艺。

据悉，SK海力士即将量产的1c DRAM将包含五个极紫外（EUV）层，其中一层将使用MOR进行绘制。这不仅展现了SK海力士在先进制造技术上的领先实力，也预示了半导体制造行业的新趋势。

值得注意的是，不仅SK海力士，三星电子也对该类无机PR材料表现出浓厚兴趣，预计将加入MOR技术的探索与应用行列。这一技术的广泛应用，有望为半导体行业带来更多的创新与突破。