原标题：上海新阳参股公司购得二手光刻机 可用于研发28纳米光刻胶

每经记者 朱成祥    实习生 程雅    每经编辑 张海妮    

3月11日，上海新阳（300236，SZ）参股公司上海芯刻微材料技术有限责任公司（以下简称“芯刻微”）委托盛吉盛（宁波）半导体材料有限公司（以下简称“盛吉盛”）代理投标，成功中标购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机一台，该设备可用于研发分辨率达28nm的高端光刻胶。

这已不是上海新阳第一次购入光刻胶产品。3月8日，上海新阳披露ASML-1400光刻机进展公告，经各方积极协商、运作，ASML-1400光刻机设备于当日已进入合作方北方集成电路技术创新中心（北京）有限公司（以下简称“北方集成电路”）场地，后续将进行安装调试等相关工作。

3月12日，上海新阳收盘报44.52元/股，下跌0.56%。

购入二手光刻机

3月11日，芯刻微向盛吉盛支付10%首期货款，购入该光刻机，剩余90%款项六个月内付清。后续公司将启动设备的运输及相关安装调试等工作。

芯刻微为上海新阳参股子公司，上海新阳持股比例为38%。芯刻微成立于2018年，主要从事半导体微电子材料、光刻材料的技术研发、生产、销售，货物及技术的进出口业务等，芯刻微未来将进行ArF湿法光刻胶的研发，而ASML浸没式光刻机设备是研究ArF湿法光刻胶技术先进性的设备保障。

光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展，更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。但是光刻胶产品在集成电路材料中技术难度大，质量要求最高，开发周期长，且核心技术及原材料几乎被国外厂商所垄断。

中银证券表示，光刻机作为晶圆制造工艺最核心的设备，相当于半导体的火车头，且因其被ASML垄断接近90%的市场格局，其订单趋势、产品创新对全球半导体产业具有前瞻性参考价值。

光大证券表示，受制于国内光刻胶技术发展水平，目前国内g线、i线光刻胶自给率为20%，KrF光刻胶的自给率不足5%，而适用于12英寸硅片的ArF光刻胶则基本依靠进口，光刻胶国产化任重道远，早日突破“卡脖子”的落后状态意义重大。

并非首次购入光刻机

早在1月5日，上海新阳就发布《合作框架协议》，就ASML-1400光刻机进展与北方集成电路开展合作。双方就ASML-1400光刻机到位后，共同研发193nmArF干法光刻胶的具体合作事宜进行披露，表示将合作在北方集成电路指定工厂搭建光刻胶验证平台，该平台由上海新阳ArF光刻机和北方集成电路的涂胶显影机（甲方负责提供）组成，用于先进光刻胶验证。

3月8日，上海新阳发布公告披露ASML-1400光刻机进展，预计该光刻机将于2021年3月底前进入合作方现场。

此外，上海新阳在3月8日的公告中表示，光刻胶研发项目技术壁垒高、周期长、至产业化并最终实现销售利润仍需一定时间，而公司购买的光刻机设备价格昂贵，其折旧及后续维护费用预计对公司的经营业绩存在一定影响。

为了解决先进制程光刻胶自给，国内已有企业主动出击，致力于打破“卡脖子”现象。晶瑞股份（300655，SZ）于1月19日发布公告称，公司顺利购得ASML XT 1900 Gi型光刻机一台。该设备于1月19日运抵苏州并成功搬入该公司高端光刻胶研发实验室，该二手光刻机将用于晶瑞股份集成电路制造用高端光刻胶的研发项目。

封面图片来源：摄图网